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1. (WO2009084160) プラズマドーピング装置及び方法並びに半導体装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/084160    国際出願番号:    PCT/JP2008/003705
国際公開日: 09.07.2009 国際出願日: 11.12.2008
IPC:
H01L 21/265 (2006.01)
出願人: PANASONIC CORPORATION [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SASAKI, Yuichiro; (米国のみ).
OKASHITA, Katsumi; (米国のみ).
MIZUNO, Bunji; (米国のみ)
発明者: SASAKI, Yuichiro; .
OKASHITA, Katsumi; .
MIZUNO, Bunji;
代理人: TANAKA, Mitsuo; AOYAMA & PARTNERS, IMP Building 3-7, Shiromi 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
優先権情報:
2007-339665 28.12.2007 JP
発明の名称: (EN) PLASMA DOPING APPARATUS AND METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DOPAGE PAR PLASMA, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF À SEMICONDUCTEUR
(JA) プラズマドーピング装置及び方法並びに半導体装置の製造方法
要約: front page image
(EN)A top panel (8) arranged on the upper part of a vacuum container (1) to face a substrate placing region (2s) of a sample electrode (2) is a surface which can be exposed to plasma generated in the vacuum container, and has an impurity containing film (4) in a top plate periphery region (8y) at the periphery of a top plate center region (8x) which faces the center section of the substrate placing region.
(FR)Selon l'invention, un panneau supérieur (8) agencé sur la partie supérieure d'une enceinte à vide (1) pour faire face à une région de placement de substrat (2s) d'une électrode témoin (2) est une surface qui peut être exposée à un plasma formé dans l'enceinte à vide, et a un film contenant une impureté (4) dans une région périphérique de plaque supérieure (8y) à la périphérie d'une région centrale de plaque supérieure (8x) qui fait face à la section centrale de la région de placement de substrat.
(JA) 試料電極(2)の基板載置領域(2s)に対向するように真空容器(1)の上部に配置された天板(8)は、真空容器内に発生させるプラズマに暴露可能な面であって基板載置領域の中央部に対向する天板中央部領域(8x)の周縁の天板周縁部領域(8y)に、不純物を含む不純物含有膜(4)を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)