WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2009081659) 真空遮断器の電極接点部材及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/081659    国際出願番号:    PCT/JP2008/069840
国際公開日: 02.07.2009 国際出願日: 27.10.2008
IPC:
H01H 33/66 (2006.01), C22C 9/00 (2006.01), C22C 27/06 (2006.01), C22F 1/08 (2006.01), C22F 1/11 (2006.01), C23C 10/32 (2006.01), H01H 1/025 (2006.01), H01H 1/04 (2006.01), C22F 1/00 (2006.01)
出願人: JAPAN AE POWER SYSTEMS CORPORATION [JP/JP]; 8-3, Nishi-Shinbashi 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NODA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NODA, Yasushi; (JP)
代理人: TAKADA, Yukihiko; 2-6, O-machi 1-chome, Mito-shi, Ibaraki 3100062 (JP)
優先権情報:
2007-333383 26.12.2007 JP
発明の名称: (EN) ELECTRODE CONTACT MEMBER OF VACUUM CIRCUIT BREAKER AND PROCESS FOR PRODUCTION OF THE SAME
(FR) ELÉMENT DE CONTACT À ÉLECTRODE D'UN DISJONCTEUR À VIDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 真空遮断器の電極接点部材及びその製造方法
要約: front page image
(EN)The invention provides an electrode contact member of vacuum circuit breaker which is obtained by forming a thick Cr fine dispersion layer on the surface of a Cu-Cr alloy base metal and which brings about improved dielectric strength and interrupting performance and a process for easy production of the member though easy formation of a Cr fine dispersion layer. The electrode contact member comprises a Cu-Cr alloy base metal (1) comprising 40 to 80wt% of Cu and 20 to 60wt% of Cr and a Cr fine dispersion layer (2) of 500&mgr;m to 3mm in thickness formed on the surface of the base metal (1) through surface treatment by friction stir processing. The Cr fine dispersion layer (2) is subjected to surface flattening treatment prior to use.
(FR)L'invention concerne un élément de contact à électrode d'un disjoncteur à vide qui est obtenu en formant une couche épaisse de fine dispersion de Cr sur la surface d'un métal de base en alliage de Cu-Cr et qui permet d'améliorer la rigidité diélectrique et les performances de coupure, et un procédé de fabrication aisée de l'élément grâce à la formation simple d'une couche de fine dispersion de Cr. L'élément de contact à électrode comprend un métal de base en alliage de Cu-Cr (1) qui comprend 40 à 80 % en poids de Cu et 20 à 60 % en poids de Cr, et une couche de fine dispersion de Cr (2) de 500 &mgr;m à 3 mm d'épaisseur formée sur la surface du métal de base (1) par un traitement de surface impliquant un processus d'agitation par frottement. La couche de fine dispersion de Cr (2) est soumise à un traitement par aplanissement de surface avant d'être utilisée.
(JA)Cu−Cr合金母材の表面に厚いCr微細分散層を形成して耐電圧や遮断性能を向上できる真空遮断器の電極接点部材、及びCr微細分散層を容易に形成できて、製造が簡単な真空遮断器の電極接点部材の製造方法を提供する。  真空遮断器の電極接点部材は、Cuの含有量が40~80重量%とCrの含有量が20から60重量%とを含むCu−Cr合金母材1の表面に、摩擦攪拌による表面処理で形成した厚さ500μm~3mmのCr微細分散層2を形成する。 このCr微細分散層2は、表面の平坦化処理を施して使用する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)