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1. (WO2009081565) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/081565    国際出願番号:    PCT/JP2008/003880
国際公開日: 02.07.2009 国際出願日: 22.12.2008
IPC:
G11B 5/84 (2006.01), B24B 5/04 (2006.01), B24B 9/00 (2006.01)
出願人: HOYA CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Naka-Ochiai 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1618525 (JP) (米国を除く全ての指定国).
UEDA, Masaaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KASHIMA, Ryuichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAGUCHI, Seiji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: UEDA, Masaaki; (JP).
KASHIMA, Ryuichi; (JP).
SAKAGUCHI, Seiji; (JP)
代理人: HAGIHARA, Makoto; Third Watanabe Building 9th Floor, 1-33, Shiba 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050014 (JP)
優先権情報:
2007-332492 25.12.2007 JP
発明の名称: (EN) MANUFACTURING METHOD OF GLASS SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT EN VERRE POUR UN DISQUE MAGNÉTIQUE
(JA) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
要約: front page image
(EN)A manufacturing method of a glass substrate for a magnetic disk by which high circularity can be obtained by eliminating swell of the peripheral end face of the glass substrate in a short working time. The manufacturing method of the glass substrate for the disk-form magnetic disk is characterized by comprising a forming process of forming a peripheral-side end portion by pressing a grindstone to the peripheral end face while rotating the glass substrate and by conducting working by use of a first condition (S106) of forming a first swell and a second condition (S108) of forming a second swell having a different wavelength from that of the first swell in the forming process.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un substrat en verre pour un disque magnétique, par lequel un aspect circulaire élevé peut être obtenu par élimination du gonflement de la face d'extrémité périphérique du substrat en verre dans un court laps de temps. Le procédé de fabrication du substrat en verre pour le disque magnétique en forme de disque est caractérisé en ce qu'il comprend un procédé de formage consistant à former une partie d'extrémité côté périphérique par pression d'une meule sur la face d'extrémité périphérique tout en faisant tourner le substrat en verre et par réalisation d'un travail en utilisant un premier état (S106) consistant à former un premier gonflement et un second état (S108) consistant à former un second gonflement ayant une longueur d'onde différente de celle du premier gonflement dans le procédé de formage.
(JA) 短い加工時間でガラス基板の外周端面のうねりを解消し、高い真円度を得ることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的としている。  円板状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、当該ガラス基板を回転させつつ外周端面に回転砥石を押圧することによって外周側の端部を成形するフォーミング工程を含み、かつ、フォーミング工程において、第1のうねりを形成する第1条件(S106)と、第1のうねりと波長の異なる第2のうねりを形成する第2条件(S108)と、を用いて加工することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)