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1. (WO2009081487) 光非相反素子、光非相反素子製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/081487    国際出願番号:    PCT/JP2007/074864
国際公開日: 02.07.2009 国際出願日: 25.12.2007
IPC:
G02B 27/28 (2006.01)
出願人: Shibaura Institute of Technology [JP/JP]; 3-7-5, Toyosu, Koto-ku, Tokyo 1358548 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YOKOI, Hideki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YOKOI, Hideki; (JP)
代理人: INABA, Yoshiyuki; TMI ASSOCIATES 23rd Floor, Roppongi Hills Mori Tower 6-10-1, Roppongi Minato-ku, Tokyo 1066123 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) OPTICAL NONRECIPROCAL DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL NONRECIPROCAL DEVICE
(FR) DISPOSITIF OPTIQUE NON RÉCIPROQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF OPTIQUE NON RÉCIPROQUE
(JA) 光非相反素子、光非相反素子製造方法
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a new technology of securing sufficient adhesion between a Si layer and a magneto-optic material layer, while avoiding the generation of cracks in the case of fabricating an optical nonreciprocal device by bonding the Si layer with a rib waveguide formed and the magneto-optic material layer. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] An optical nonreciprocal device is provided with a Si guiding layer that is obtained by forming a rib waveguide in a Si layer on the surface of an SOI substrate, an adhesive buffer layer that is arranged on the Si guiding layer and has a refractive index of 2.8 or higher and lower than the refractive index of the Si guiding layer, and a magneto-optic material layer that is arranged on the adhesive buffer layer to give magnetization in the perpendicular direction to the light propagation direction of the rib waveguide.
(FR)L'invention vise à proposer une nouvelle technologie consistant à assurer une adhésion suffisante entre une couche de Si et une couche de matériau magnéto-optique, tout en évitant la génération de craquelures dans le cas de la fabrication d'un dispositif optique non réciproque par liaison de la couche de Si avec un guide d'ondes à rebord formé et de la couche de matériau magnéto-optique. A cet effet, l'invention porte sur un dispositif optique non réciproque qui comporte une couche de guidage de Si qui est obtenue par la formation d'un guide d'ondes à rebord dans une couche de Si sur la surface d'un substrat silicium sur isolant (SOI), une couche de tampon adhésif qui est agencée sur la couche de guidage de Si et a un indice de réfraction de 2,8 ou plus et qui est inférieur à l'indice de réfraction de la couche de guidage de Si, et une couche de matériau magnéto-optique qui est agencée sur la couche de tampon adhésif pour donner une magnétisation dans la direction perpendiculaire à la direction de propagation de lumière du guide d'ondes à rebord.
(JA)【課題】リブ導波路を形成したSi層と、磁気光学材料層とを貼り合わせて光非相反素子を作成する場合に、クラックの発生を回避しつつ、Si層と磁気光学材料層との十分な接着を確保することができる新たな技術を提供する。 【解決手段】SOI基板の表面Si層にリブ導波路を形成して得られるSi導波層と、前記Si導波層の上に配され、2.8以上、かつSi導波層の屈折率より低い屈折率を有する接着性バッファ層と、前記接着性バッファ層の上に配され、前記リブ導波路の光の伝播方向に対して垂直方向の磁化を与える磁気光学材料層と、を備える。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)