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1. WO2009069204 - 誘電体バリア放電装置

公開番号 WO/2009/069204
公開日 04.06.2009
国際出願番号 PCT/JP2007/072962
国際出願日 28.11.2007
IPC
H05H 1/24 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
C23C 16/509 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44被覆の方法に特徴のあるもの
50放電を用いるもの
505高周波放電によるもの
509内部電極を用いるもの
H01L 21/205 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
20基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
205固体を析出させるガス状化合物の還元または分解を用いるもの,すなわち化学的析出を用いるもの
CPC
C23C 16/4405
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
4401Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
4405Cleaning of reactor or parts inside the reactor by using reactive gases
H01J 37/32009
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
H01J 37/32348
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32348Dielectric barrier discharge
H01J 37/32825
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32798Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
32816Pressure
32825Working under atmospheric pressure or higher
H05H 1/2406
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
2406Dielectric barrier discharges
H05H 2001/2412
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
2406Dielectric barrier discharges
2412the dielectric being interposed between the electrodes
出願人
  • 東芝三菱電機産業システム株式会社 TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 田畑 要一郎 TABATA, Yoichiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 渡辺 謙資 WATANABE, Kensuke [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 吉田 章男 YOSHIDA, Akio [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 田畑 要一郎 TABATA, Yoichiro
  • 渡辺 謙資 WATANABE, Kensuke
  • 吉田 章男 YOSHIDA, Akio
代理人
  • 高田 守 TAKADA, Mamoru
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DIELECTRIC BARRIER DISCHARGING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DÉCHARGE À BARRIÈRE DIÉLECTRIQUE
(JA) 誘電体バリア放電装置
要約
(EN)
A highly reliable dielectric barrier discharging device in which corruption of an inner member by raw gas and activated gas can securely be prevented in etching processing/cleaning processing and which has long life is provided. A dielectric is arranged between a flat ground electrode and a high voltage electrode, and a spacer where a discharge space part whose four sides are gas-shielded is formed is arranged between the dielectric and the ground electrode. A raw gas supply part and an activated gas discharge part are installed so that gas is shielded in an inner space of a generator cover covering a discharge cell. Purge gas different from raw gas is supplied to the inner space.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de décharge à barrière diélectrique hautement fiable dans lequel la corruption d'un élément interne par un gaz brut et un gaz actif peut être empêchée lors de la gravure/du nettoyage, et qui possède une longue durée de vie. Un diélectrique est disposé entre une électrode de masse plate et une électrode à haute tension, et une entretoise dans laquelle une partie d'espace de décharge dont les quatre côtés sont étanches au gaz est formée est disposée entre le diélectrique et l'électrode de masse. Une partie d'alimentation en gaz brut et une partie de décharge de gaz actif sont installées afin que le gaz soit confiné dans un espace interne d'un couvercle de générateur qui recouvre une cellule de décharge. Un gaz de purge différent du gaz brut est fourni à l'espace interne.
(JA)
 エッチング処理/クリーニング処理において、原料ガス及び活性化ガスによる内部部材の腐食を確実に防止することができ、長寿命で信頼性の高い誘電体バリア放電装置を提供する。このため、平板状の接地電極と高圧電極との間に誘電体を配置するとともに、この誘電体と接地電極との間に、四方がガスシールドされた放電空間部を形成するスペーサを配置する。そして、放電セルを覆う発生器カバーの内部空間に対してガスシールドされるように、原料ガス供給部と活性化ガス排出部とを設置する。また、上記内部空間に、原料ガスとは異なるパージガスを供給する。
他の公開
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