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1. WO2009057680 - 成膜装置及び成膜方法

公開番号 WO/2009/057680
公開日 07.05.2009
国際出願番号 PCT/JP2008/069728
国際出願日 30.10.2008
IPC
C23C 14/50 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
50基板保持具
C23C 14/34 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
CPC
C23C 14/34
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
34Sputtering
C23C 14/505
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
50Substrate holders
505for rotation of the substrates
出願人
  • 荏原ユージライト株式会社 EBARA-UDYLITE CO., LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 吉岡 潤一郎 YOSHIOKA, Junichiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 堀江 邦明 HORIE, Kuniaki [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 南部 信政 NAMBU, Nobumasa [JP]/[JP] (UsOnly)
発明者
  • 吉岡 潤一郎 YOSHIOKA, Junichiro
  • 堀江 邦明 HORIE, Kuniaki
  • 南部 信政 NAMBU, Nobumasa
代理人
  • 小林 和憲 KOBAYASHI, Kazunori
優先権情報
2007-28347531.10.2007JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FILM FORMING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD
(FR) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
要約
(EN)
A main rotating section (15) which rotates with a main shaft (13) at the center is provided with a plurality of sub-rotating sections (16), and each sub-rotating section (16) has a plurality of work holders (17). A work (W) held by the work holder (17) rotates on its own rotating shaft (46), while rotating with the main shaft (13) at the center and rotating with a sub-shaft (36) at the center by rotation of the main rotating section (15) and sub-rotating sections (16). Films are formed by making surfaces of the works (W) sequentially face a target (23).
(FR)
Une section rotative principale (15) qui tourne avec un arbre principal (13) au centre est équipée d'une pluralité de sous-sections rotatives (16), et chaque sous-section rotative (16) comporte une pluralité de porte-pièces (17). Une pièce (W) supportée par le porte-pièce (17) tourne sur son propre arbre rotatif (46), tout en tournant avec l'arbre principal (13) au centre et en tournant avec un sous-arbre (36) au centre par la rotation de la section rotative principale (15) et des sous-sections rotatives (16). Des films sont formés en faisant en sorte que les surfaces des pièces (W) fassent face à une cible (23) de façon séquentielle.
(JA)
主軸(13)を中心に回転する主回転部(15)には、複数の副回転部(16)を設けてあり、各副回転部(16)には、それぞれ複数のワークホルダ(17)を設けてある。ワークホルダ(17)に保持されるワーク(W)は、主回転部(15),副回転部(16)の回転により、主軸(13)を中心にした回転と副軸(36)を中心にした回転をしながら、回転軸(46)を中心に自転し、各ワーク(W)の各面がターゲット(23)に順次に対面されて成膜が行われる。
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