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1. WO2009054116 - クリーンルーム

公開番号 WO/2009/054116
公開日 30.04.2009
国際出願番号 PCT/JP2008/002966
国際出願日 20.10.2008
IPC
F24F 7/06 2006.01
F機械工学;照明;加熱;武器;爆破
24加熱;レンジ;換気
F空気調節;空気加湿;換気;しゃへいのためのエアカーテンの利用
7換気
04ダクト系統をもつもの
06強制空気循環手段をもつもの,例.扇風機によるもの
CPC
F24F 3/161
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
24HEATING; RANGES; VENTILATING
FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
3Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
12characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
16by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
1603by filtering
161Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
H01L 21/67115
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67098Apparatus for thermal treatment
67115mainly by radiation
出願人
  • パナソニック株式会社 PANASONIC CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 植松克仁 UEMATSU, Katsuhito (UsOnly)
  • 松田直子 MATSUDA, Naoko (UsOnly)
  • 中裕之 NAKA, Hiroyuki (UsOnly)
発明者
  • 植松克仁 UEMATSU, Katsuhito
  • 松田直子 MATSUDA, Naoko
  • 中裕之 NAKA, Hiroyuki
代理人
  • 田中光雄 TANAKA, Mitsuo
優先権情報
2007-27866926.10.2007JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CLEAN ROOM
(FR) SALLE BLANCHE
(JA) クリーンルーム
要約
(EN)
A dust discharge promotion surface (15-1) of a dust discharge assist member (15) is placed to face the upper surface (10-1) of a heat radiation body (10) such as a production facility. The space between the upper surface of the heat radiation body and the dust discharge promotion surface of the dust discharge assist member is adapted to be occupied by an ascending air flow. The ascending air flow is such an air flow that allows, when substances, such as dust and chemical substances, fall by gravity in air, their size to balance with air resistance so that the velocity of their fall (terminal velocity) is not higher than a predetermined level. The construction prevents the substances, such as dust and chemical substances, from falling onto the heat radiation body.
(FR)
Une surface favorisant le rejet des poussières (15-1) d'un élément d'assistance au rejet de poussières (15) est placée face à la surface supérieure (10-1) d'un corps à rayonnement thermique (10), tel qu'une unité industrielle. L'espace entre la surface supérieure du corps à rayonnement thermique et la surface favorisant le rejet de poussières de l'élément d'assistance au rejet de poussières est prévu pour être occupé par un flux d'air ascendant. Du fait de la nature du flux d'air ascendant, la taille des substances, telles que les poussières et les substances chimiques, qui tombent dans l'air par gravité, s'équilibre avec la résistance de l'air pour que la vitesse de leur chute (vitesse terminale) ne soit pas supérieure à un niveau prédéterminé. La construction empêche les substances, comme les poussières et les substances chimiques, de tomber sur le corps à rayonnement thermique.
(JA)
 生産設備等の放熱体(10)の上面(10-1)に対向するように排塵補助部材(15)の排塵促進面(15-1)を配置して、放熱体の上面と排塵補助部材の排塵促進面との間を、塵埃又は化学物質等の物体の大きさと、その物体が空気中を自由落下中に空気抵抗と釣り合い、ある一定以上速くならない落下速度(終末速度)以上の上昇気流で占有することにより、塵埃及び化学物質等の物体は放熱体上に落下しない。
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