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1. WO2009050835 - 成膜方法および成膜装置

公開番号 WO/2009/050835
公開日 23.04.2009
国際出願番号 PCT/JP2008/001954
国際出願日 22.07.2008
予備審査請求日 07.08.2009
IPC
C23C 24/04 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
24無機質粉末から出発する被覆
02圧力のみを加えることによるもの
04粒子の衝撃析出または動力学的析出
CPC
C23C 24/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
24Coating starting from inorganic powder
02by application of pressure only
04Impact or kinetic deposition of particles
出願人
  • パナソニック株式会社 PANASONIC CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 高橋慶一 TAKAHASHI, Keiichi (UsOnly)
  • 美濃辰治 MINO, Shinji (UsOnly)
  • 吉田雅憲 YOSHIDA, Tsunenori (UsOnly)
発明者
  • 高橋慶一 TAKAHASHI, Keiichi
  • 美濃辰治 MINO, Shinji
  • 吉田雅憲 YOSHIDA, Tsunenori
代理人
  • 奥田誠司 OKUDA, Seiji
優先権情報
2007-26918216.10.2007JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FILM FORMATION METHOD AND FILM FORMATION APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜方法および成膜装置
要約
(EN)
A film formation method includes steps of producing first aerosol by intermittently introducing carrier gas (5) into a first chamber (8) holding raw material powder (7) and mixing the raw material powder (7) with the carrier gas (5), producing second aerosol by introducing the first aerosol into a second chamber (9), and spraying the second aerosol into a third chamber (13), thereby forming a film of the raw material powder (7).
(FR)
Le procédé selon l'invention comprend les étapes consistant à : produire un premier aérosol en introduisant par intermittence un gaz porteur (5) dans une première chambre (8) contenant une matière première en poudre (7), et mélanger la matière première en poudre (7) avec le gaz porteur (5), produire un second aérosol en introduisant le premier aérosol dans une deuxième chambre (9), et pulvériser le second aérosol dans une troisième chambre (13), pour former ainsi un film de la matière première en poudre (7).
(JA)
 本発明の成膜方法は、原料粉体7を保持した第1のチャンバー8に搬送気体5を間欠的に導入して原料粉体7と搬送気体5とを混合することにより第1のエアロゾルを生成すること、第1のエアロゾルを第2のチャンバー9に導入することによって第2のエアロゾルを生成すること、および、第2のエアロゾルを第3のチャンバー13に噴射することにより、原料粉体7の膜を形成する工程を包含する。
関連公開情報:
国際事務局に記録されている最新の書誌情報