(EN) Disclosed is a substrate for solar cells comprising an insulating anodic oxide coating film on a metal substrate, wherein the thickness TO of the anodic oxide coating film and the thickness TB of a barrier layer of the anodic oxide coating film are within a region I defined by point A (TO = 0.01 &mgr;m, TB = 0.01 &mgr;m), point B (TO = 2 &mgr;m, TB = 2 &mgr;m), point C (TO = 100 &mgr;m, TB = 2 &mgr;m) and point D (TO = 100 &mgr;m, TB = 0.01 &mgr;m) (including the border). Also disclosed is a solar cell using such a substrate for solar cells.
(FR) L'invention concerne un substrat pour cellules solaires qui comprend un film de revêtement d'oxyde anodique isolant sur un substrat métallique, l'épaisseur TO du film de revêtement d'oxyde anodique et l'épaisseur TB d'une couche barrière de ce film se trouvant dans une région I définie par un point A (TO = 0.01 &mgr;m, TB = 0.01 &mgr;m), un point B (TO = 2 &mgr;m, TB = 2 &mgr;m), un point C (TO = 100 &mgr;m, TB = 2 &mgr;m) et un point D (TO = 100 &mgr;m, TB = 0.01 &mgr;m) (y compris la limite). L'invention concerne également une cellule solaire utilisant un substrat pour cellules solaires.
(JA) 金属基板上に絶縁性の陽極酸化皮膜を有する太陽電池用基板であって、前記陽極酸化皮膜の厚みＴＯおよび前記陽極酸化皮膜のバリア層の厚みＴＢが、図１に示すＡ点（ＴＯ＝０．０１μｍ，ＴＢ＝０．０１μｍ）、Ｂ点（ＴＯ＝２μｍ，ＴＢ＝２μｍ）、Ｃ点（ＴＯ＝１００μｍ，ＴＢ＝２μｍ）、Ｄ点（ＴＯ＝１００μｍ，ＴＢ＝０．０１μｍ）で囲まれる領域Ｉの範囲内（ただし境界線上を含む。）にある、太陽電池用基板、及びそれを用いた太陽電池。
