(EN) A microwave plasma processing device (100) of the slot antenna type includes a planar antenna plate (31) constituting a flat waveguide and a cover (34) formed by a conductive member. The cover (34) has a stub (43) as a second waveguide for adjusting field distribution in the flat waveguide. The stub (43) is arranged at a position superposed by slots (32) constituting a slot pair arranged at the outermost circumference of the planar antenna plate (31) when viewed from above. By appropriately arranging the stubs (43), it is possible to control the field distribution in the flat waveguide and generate a uniform plasma.
(FR) L'invention porte sur un dispositif de traitement au plasma micro-onde (100) de type antenne à fentes, qui comprend une plaque d'antenne plane (31) constituant un guide d'onde plat et un couvercle (34) formé par un élément conducteur. Le couvercle (34) a une embase (43) en tant que second guide d'onde pour ajuster une distribution de champ dans le guide d'onde plat. L'embase (43) est agencée à une position superposée par des fentes (32) constituant une paire de fentes agencées à la périphérie la plus à l'extérieur de la plaque d'antenne plane (31) lorsqu'elle est vue du dessus. Par un agencement approprié des embases (43), il est possible de commander la distribution de champ dans le guide d'onde plat et de générer un plasma uniforme.
(JA) スロットアンテナ方式のマイクロ波プラズマ処理装置１００は、扁平導波管を構成する平面アンテナ板３１および導電性部材からなるカバー３４を備える。カバー３４に、扁平導波管内の電界分布を調整するための第２の導波管としてのスタブ４３を備えている。スタブ４３は、導電性部材からなるカバー３４が設けられている。スタブ４３は、平面視で、平面アンテナ板３１の最外周に配列されたスロット対を構成するスロット３２と重なる位置に配置されている。スタブ４３の適正な配置により、扁平導波管内の電界分布を制御して均一なプラズマを生成することができる。
