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1. WO2009041357 - 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

公開番号 WO/2009/041357
公開日 02.04.2009
国際出願番号 PCT/JP2008/066973
国際出願日 19.09.2008
IPC
G03F 7/039 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
H01L 21/027 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
CPC
G03F 7/0007
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
G03F 7/0392
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
0392the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
G03F 7/0397
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
0392the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
0397the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM Corporation [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 上村 聡 KAMIMURA, Sou (UsOnly)
  • 平野 修史 HIRANO, Shuji (UsOnly)
発明者
  • 上村 聡 KAMIMURA, Sou
  • 平野 修史 HIRANO, Shuji
代理人
  • 高松 猛 TAKAMATSU, Takeshi
優先権情報
2007-24725125.09.2007JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN FROM THE SAME
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF À PARTIR DE CELLE-CI
(JA) 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
要約
(EN) A photosensitive composition for use in steps for producing semiconductor devices including ICs, in the production of circuit boards for liquid crystals, thermal heads, etc., and in other photofabrication steps, etc. It has been improved in four points, i.e., sensitivity, resolution, line edge roughness, and pattern falling. Also provided is a method of forming a pattern from the composition. The photosensitive composition comprises (A) a polymer which has repeating units of a specific acetal structure having a leaving group not having a cyclic structure therein and which decomposes by the action of an acid to come to have enhanced solubility in an alkaline developing solution, (B) a polymer which has repeating units of a specific acetal structure having a leaving group having a cyclic structure therein and which decomposes by the action of an acid to come to have enhanced solubility in an alkaline developing solution, and (C) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or a radiation.
(FR) L'invention porte sur une composition photosensible destinée à être utilisée dans des étapes pour produire des dispositifs semi-conducteurs comprenant des CI, dans la fabrication de cartes de circuit pour cristaux liquides, de têtes thermiques, etc., et dans d'autres étapes de photo-fabrication, etc. Elle a été améliorée en quatre points, à savoir, la sensibilité, la résolution, la rugosité de bord de ligne et la chute de motif. L'invention porte également sur un procédé de formation d'un motif à partir de la composition. La composition photosensible comprend (A) un polymère qui a des unités répétitives d'une structure d'acétal spécifique ayant un groupe partant ne renfermant pas de structure cyclique et qui se décompose par l'action d'un acide pour venir à avoir une solubilité améliorée dans une solution de développement alcaline, (B) un polymère qui a des unités répétitives d'une structure d'acétal spécifique ayant un groupe partant renfermant une structure cyclique et qui se décompose par l'action d'un acide pour venir à avoir une solubilité améliorée dans une solution de développement alcaline, et (C) un composé qui génère un acide lors d'une irradiation par des rayons actiniques ou un rayonnement.
(JA)  IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、感度、解像度、ラインエッジラフネス及びパターン倒れの4点で改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法として、(A)脱離基中に環状構造をもたない特定のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、(B)脱離基中に環状構造をもった特定のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
関連特許文献
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