(EN) A photosensitive composition for use in steps for producing semiconductor devices including ICs, in the production of circuit boards for liquid crystals, thermal heads, etc., and in other photofabrication steps, etc. It has been improved in four points, i.e., sensitivity, resolution, line edge roughness, and pattern falling. Also provided is a method of forming a pattern from the composition. The photosensitive composition comprises (A) a polymer which has repeating units of a specific acetal structure having a leaving group not having a cyclic structure therein and which decomposes by the action of an acid to come to have enhanced solubility in an alkaline developing solution, (B) a polymer which has repeating units of a specific acetal structure having a leaving group having a cyclic structure therein and which decomposes by the action of an acid to come to have enhanced solubility in an alkaline developing solution, and (C) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or a radiation.
(FR) L'invention porte sur une composition photosensible destinée à être utilisée dans des étapes pour produire des dispositifs semi-conducteurs comprenant des CI, dans la fabrication de cartes de circuit pour cristaux liquides, de têtes thermiques, etc., et dans d'autres étapes de photo-fabrication, etc. Elle a été améliorée en quatre points, à savoir, la sensibilité, la résolution, la rugosité de bord de ligne et la chute de motif. L'invention porte également sur un procédé de formation d'un motif à partir de la composition. La composition photosensible comprend (A) un polymère qui a des unités répétitives d'une structure d'acétal spécifique ayant un groupe partant ne renfermant pas de structure cyclique et qui se décompose par l'action d'un acide pour venir à avoir une solubilité améliorée dans une solution de développement alcaline, (B) un polymère qui a des unités répétitives d'une structure d'acétal spécifique ayant un groupe partant renfermant une structure cyclique et qui se décompose par l'action d'un acide pour venir à avoir une solubilité améliorée dans une solution de développement alcaline, et (C) un composé qui génère un acide lors d'une irradiation par des rayons actiniques ou un rayonnement.
(JA) ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、感度、解像度、ラインエッジラフネス及びパターン倒れの４点で改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法として、（Ａ）脱離基中に環状構造をもたない特定のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、（Ｂ）脱離基中に環状構造をもった特定のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
