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1. (WO2009037921) インプリントリソグラフィ用モールド製作方法及びモールド
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/037921    国際出願番号:    PCT/JP2008/063490
国際公開日: 26.03.2009 国際出願日: 28.07.2008
IPC:
B29C 59/02 (2006.01), B29C 33/38 (2006.01), B81C 99/00 (2010.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 3-1, Kasumigaseki 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008921 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HIROSHIMA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HIROSHIMA, Hiroshi; (JP)
優先権情報:
2007-242734 19.09.2007 JP
発明の名称: (EN) IMPRINT LITHOGRAPHY MOLD MANUFACTURING METHOD, AND MOLD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOULE DE LITHOGRAPHIE PAR IMPRESSION, ET MOULE
(JA) インプリントリソグラフィ用モールド製作方法及びモールド
要約: front page image
(EN)Intended is to prevent the occurrence of a left film distribution dependent upon the pattern density of a mold. When the mold to be used for an imprint lithography is manufactured by an etching using a mask, there are used a first mask (M1) for forming a desired pattern to be formed on the mold face, and a second mask (M2) for covering the first mask partially such that the area covering the opening of the first mask is made the wider for the higher opening ratio of the pattern formed on the first mold face, thereby to homogenize the volume of the mold recess in a constant area. After the etching of the mold was made by the first mask, the etching is further made not by removing the first mask but by covering the first mask with the second mask partially. Alternatively, the etching is made, from the first time, with the first mask and the second mask being overlaid, so that the etching is made by using the second mask as an etching delaying mask.
(FR)L'invention vise à empêcher l'apparition d'une distribution de film restant en fonction de la densité de motif d'un moule. A cet effet, lorsque le moule devant être utilisé pour une lithographie par impression est fabriqué par gravure à l'aide d'un masque, on utilise un premier masque (M1) pour former un motif désiré devant être formé sur la face de moule, et un deuxième masque (M2) pour couvrir partiellement le premier masque de telle sorte que la surface recouvrant l'ouverture du premier masque est amenée à être la plus large pour un rapport d'ouverture le plus élevé du motif formé sur la première face de moule, de façon à homogénéiser ainsi le volume de la cavité de moule dans une surface constante. Après que la gravure du moule a été réalisée par le premier masque, la gravure est réalisée de façon additionnelle non par retrait du premier masque mais par recouvrement partiel du premier masque avec le deuxième masque. En variante, la gravure est réalisée, à partir du début, avec le premier masque et le deuxième masque qui est superposé, de telle sorte que la gravure est réalisée par utilisation du deuxième masque comme masque de retard de gravure.
(JA) モールドのパターン密度に依存した残膜分布が発生することを防止するため、インプリントリソグラフィに使用するモールドを、マスクを用いたエッチングにより製作するに際して、モールド面上に形成する所望のパターンを作製するための第1マスク(M1)と、前記第1マスクを部分的に覆い、第1のモールド面上に形成するパターンの開口率が高い程、第1マスク開口部を覆う面積を広くして、一定面積におけるモールド凹部の容積を均一化する第2マスク(M2)とを用い、第1マスクによりモールドをエッチングした後、第1マスクを除去しないで第2マスクにより第1マスクを部分的に覆って更にエッチングを行い、或いは最初から第1マスクと第2マスクを重ねた状態でエッチングを行い、第2マスクをエッチング遅延用マスクとして用いてエッチングを行う。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)