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1. (WO2009035089) 電子材料用洗浄剤
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/035089    国際出願番号:    PCT/JP2008/066558
国際公開日: 19.03.2009 国際出願日: 12.09.2008
IPC:
C11D 17/00 (2006.01), B08B 3/08 (2006.01), C11D 1/02 (2006.01), C11D 1/66 (2006.01), C11D 3/04 (2006.01), C11D 3/16 (2006.01), C11D 3/37 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: SANYO CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 11-1, Ikkyo Nomoto-cho, Higashiyama-ku, Kyoto-shi Kyoto 6050995 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SUZUKI, Kazumitsu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUGIYAMA, Ayayo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KATSUKAWA, Yoshitaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SUZUKI, Kazumitsu; (JP).
SUGIYAMA, Ayayo; (JP).
KATSUKAWA, Yoshitaka; (JP)
代理人: SUGIMURA, Kenji; 36F, Kasumigaseki Common Gate West 3-2-1, Kasumigaseki Chiyoda-ku, Tokyo 100-0013 (JP)
優先権情報:
2007-239356 14.09.2007 JP
2007-239474 14.09.2007 JP
発明の名称: (EN) CLEANING AGENT FOR ELECTRONIC MATERIAL
(FR) AGENT NETTOYANT POUR MATÉRIEL ÉLECTRONIQUE
(JA) 電子材料用洗浄剤
要約: front page image
(EN)This invention provides a cleaning agent for electronic materials such as magnetic disk substrates, flat panel display substrates, and photomask substrates, which can realize excellent particle removing properties by imparting a suitable level of etching properties without sacrificing the flatness of the surface of electronic material substrates such as magnetic disk substrates, flat panel display substrates, and photomask substrates and enhancing the dispersibility of particles desorbed from the surface of the substrates with a surfactant, whereby a very efficient high level cleaning, which can realize an improvement in yield in the production of the electronic materials and cleaning in a short time. The cleaning agent for electronic materials contains a surfactant (A) and is characterized by satisfying formula (1): V ≤ -38.7 x pH + 550 (1) wherein pH represents the pH value of the cleaning agent at 25˚C at an effective component concentration for use as a cleaning liquid; and V represents the redox potential of the cleaning agent at 25˚C at an effective component concentration for use as the cleaning liquid, mV (vs. SHE).
(FR)L'invention porte sur un agent nettoyant pour des matériels électroniques tels que: des substrats de disques magnétiques, des substrats d'écrans plats, et des substrats de photomasques. Ledit agent permet une excellente élimination des particules en assurant le niveau désiré de décapage sans sacrifier la planéité desdits substrats, tout en renforçant la dispersibilité des particules désorbées de la surface des substrats au moyen d'un tensioactif, d'où un niveau efficace et élevé de nettoyage améliorant le rendement de la production et la vitesse de nettoyage. L'agent nettoyant contient un tensioactif (A) respectant la formule (1): V ≤ -38,7 x pH + 550 dans laquelle pH représente le pH de l'agent nettoyant à 25˚C pour une concentration efficace du composant utilisable comme liquide de nettoyage, et V représente le potentiel redox de l'agent nettoyant à 25˚C pour une concentration efficace du composant utilisable comme liquide de nettoyage, mV (vs. SHE).
(JA) 磁気ディスク基板、フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間での洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク基板、フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。この電子材料用洗浄剤は、界面活性剤(A)を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における25°CでのpH及び酸化還元電位(V)[単位はmV、vsSHE]が下記数式(1)を満たすことを特徴とする。      V ≦ -38.7×pH+550     (1)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)