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1. (WO2009034905) 酸化セリウム及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/034905    国際出願番号:    PCT/JP2008/065937
国際公開日: 19.03.2009 国際出願日: 04.09.2008
IPC:
C09K 3/14 (2006.01), C01F 17/00 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01), B82Y 30/00 (2011.01), B82Y 99/00 (2011.01)
出願人: MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-11-1, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584 (JP) (米国を除く全ての指定国).
OGURA, Shuji [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OGURA, Shuji; (JP)
代理人: TANAKA AND OKAZAKI; Hongo K & K Bldg., 30-10 Hongo 3-chome, Bunkyo-ku Tokyo 1130033 (JP)
優先権情報:
2007-237484 13.09.2007 JP
発明の名称: (EN) CERIUM OXIDE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) OXYDE DE CÉRIUM ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 酸化セリウム及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed are a cerium oxide and a method for producing the cerium oxide. Specifically disclosed is a cerium oxide which enables to obtain high smoothness comparable to that realized by a colloidal silica when used as a polishing material, while having high polishing rate. The cerium oxide enables to have a polished surface with good cleanability. More specifically disclosed is a cerium oxide having an average particle diameter of not more than 0.5 μm and a crystallite diameter of 8-80 nm. When the cerium oxide is formed into a cerium oxide slurry containing the cerium oxide in a 3% by mass saline solution at a concentration of 2% bymass,the slurry has a certain sedimentation volume. Specifically, the sedimentation volume is within the range of 2.5-15.0 mL/g when the cerium oxide slurry is left at rest for 24 hours after stirring.
(FR)L'invention concerne un oxyde de cérium et un procédé de fabrication de l'oxyde de cérium. L'invention concerne notamment un oxyde de cérium qui permet d'obtenir une texture très lisse comparable à celle obtenue avec une silice colloïdale lors d'une utilisation en tant que matériau de polissage, tout en présentant une vitesse de polissage élevée. L'oxyde de cérium permet d'obtenir une surface polie avec une bonne capacité de nettoyage. L'invention concerne plus particulièrement un oxyde de cérium qui présente un diamètre de particule moyen inférieur ou égal à 0,5 µm et un diamètre de cristallite de 8-80 nm. Lorsque l'oxyde de cérium est formé dans une pâte d'oxyde de cérium qui contient l'oxyde de cérium dans une solution saline à 3 % en masse à une concentration de 2 % en masse, la pâte a un certain volume de sédimentation. Le volume de sédimentation est notamment dans la plage allant de 2,5 à 15,0 mL/g lorsque la pâte d'oxyde de cérium est laissée au repos pendant 24 heures après agitation.
(JA) 本発明は、酸化セリウムおよびその製造方法に関し、特に研摩材として用いた場合に、コロイダルシリカに匹敵する高い平滑性を実現し、かつ研摩速度も大きいものとなる酸化セリウムの提供を目的とする。また、研摩後の研摩面の洗浄性も良好となる酸化セリウムを提供する。本発明は、平均粒径が0.5μm以下であり、結晶子径が8~80nmである酸化セリウムであって、前記酸化セリウムは、3質量%の食塩水中に、濃度2質量%の酸化セリウムを含む酸化セリウムスラリーとしたときに所定の沈降体積となるように沈降するものであり、沈降体積は、酸化セリウムスラリーを撹拌後静置して24時間後に、2.5~15.0mL/gとなることを特徴とする酸化セリウムに関する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)