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1. (WO2009031419) 真空処理システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/031419    国際出願番号:    PCT/JP2008/065038
国際公開日: 12.03.2009 国際出願日: 22.08.2008
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/677 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MIYASHITA, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TADA, Noritomo [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MIYASHITA, Tetsuya; (JP).
TADA, Noritomo; (JP)
代理人: TAKAYAMA, Hiroshi; Hirakawacho Tsujita Bldg. 2F 1-7-20, Hirakawacho, Chiyoda-ku Tokyo 1020093 (JP)
優先権情報:
2007-227591 03.09.2007 JP
発明の名称: (EN) VACUUM PROCESSING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE TRAITEMENT SOUS VIDE
(JA) 真空処理システム
要約: front page image
(EN)A vacuum processing system (1) is provided with CVD processing chambers (12-15), a transfer chamber (11) and a purge gas discharging member (51). In each of the CVD processing chambers, CVD processing is performed to a wafer (W) under a vacuum state. The transfer chamber has a carry in/out port (31) for carrying in/out the wafer (W), and the CVD processing chambers (12-15) are connected to the transfer chamber through a gate valve (G) which can open/close the carry in/out port (31). The transfer chamber is provided with a transfer mechanism (16) for carrying in/out the wafer (W) to/from the CVD processing chambers (12-15) through the carry in/out port (31), and inside of the transfer chamber is kept in a vacuum state. The purge gas discharging member is arranged at the vicinity of the carry in/out port (31) for discharging a purge gas into the CVD processing chamber through the carry in/out port (31), in a state where the gate valve (G) is opened and the transfer chamber (11) is communicated with one of the CVD processing chambers.
(FR)L'invention porte sur un système de traitement sous vide (1) qui comporte des chambres de traitement de dépôt chimique en phase vapeur (12-15), une chambre de transfert (11) et un élément de décharge de gaz de purge (51). Dans chacune des chambres de traitement de dépôt chimique en phase vapeur, un traitement de dépôt chimique en phase vapeur est effectué sur une tranche (W) sous un état de vide. La chambre de transfert comporte un orifice d'acheminement d'entrée/sortie (31) pour faire entrer/sortir la tranche (W), et les chambres de traitement de dépôt chimique en phase vapeur (12-15) sont reliées à la chambre de transfert par l'intermédiaire d'une vanne à obturateur (G) qui peut ouvrir/fermer l'orifice d'acheminement d'entrée/sortie (31). La chambre de transfert comporte un mécanisme de transfert (16) pour faire entrer/sortir de la tranche (W) dans/hors des chambres de traitement de dépôt chimique en phase vapeur (12-15) à travers l'orifice d'acheminement d'entrée/sortie (31), et l'intérieur de la chambre de transfert est maintenu dans un état de vide. L'élément de décharge de gaz de purge est disposé au voisinage de l'orifice d'acheminement d'entrée/sortie (31) pour décharger un gaz de purge dans la chambre de traitement de dépôt chimique en phase vapeur à travers l'orifice d'acheminement d'entrée/sortie (31), dans un état dans lequel la vanne à obturateur (G) est ouverte et la chambre de transfert (11) communique avec l'une des chambres de traitement de dépôt chimique en phase vapeur.
(JA) 真空処理システム(1)は、ウエハWに対して真空下でCVD処理を行うCVD処理チャンバ(12~15)と、ウエハWを搬入・搬出する搬入出口(31)を有し、搬入出口(31)を開閉可能なゲートバルブ(G)を介してCVD処理チャンバ(12~15)が接続され、ウエハWを搬入出口(31)を介してCVD処理チャンバ(12~15)に対し、搬入出する搬送機構(16)を備え、その内部が真空状態に保持される搬送室(11)と、搬入出口(31)近傍に設けられ、ゲートバルブ(G)を開いて搬送室(11)といずれかのCVD処理チャンバが連通した状態で、搬入出口(31)を経由してそのCVD処理チャンバへパージガスを吐出するパージガス吐出部材(51)とを具備する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)