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1. (WO2009031276) III族窒化物構造体およびIII族窒化物半導体微細柱状結晶の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/031276    国際出願番号:    PCT/JP2008/002322
国際公開日: 12.03.2009 国際出願日: 27.08.2008
IPC:
C23C 14/06 (2006.01), H01L 21/203 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
出願人: SOPHIA SCHOOL CORPORATION [JP/JP]; 7-1 Kioi-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 1028554 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KISHINO, Katsumi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIKUCHI, Akihiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KISHINO, Katsumi; (JP).
KIKUCHI, Akihiko; (JP)
代理人: HAYAMI, Shinji; Gotanda TG Bldg. 9F 9-2, Nishi-Gotanda 7-chome Shinagawa-ku Tokyo 1410031 (JP)
優先権情報:
2007-227935 03.09.2007 JP
発明の名称: (EN) III NITRIDE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING III NITRIDE SEMICONDUCTOR FINE COLUMNAR CRYSTAL
(FR) STRUCTURE DE NITRURE III ET PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN CRISTAL EN COLONNE FIN SEMI-CONDUCTEUR AU NITRURE III
(JA) III族窒化物構造体およびIII族窒化物半導体微細柱状結晶の製造方法
要約: front page image
(EN)A III nitride structure includes a film (108) having a surface composed of a metal formed in a prescribed region on the surface of a substrate (102); and a fine columnar crystal (110) composed of at least a III nitride semiconductor formed on the surface of the substrate (102). The spatial occupancy ratio of the fine columnar crystal (110) is higher on the surface of the substrate (102) where the film (108) is not formed than that on the film (108).
(FR)L'invention porte sur une structure de nitrure III qui comprend un film (108) comportant une surface constituée d'un métal formé dans une région prescrite sur la surface d'un substrat (102) ; et un cristal en colonne fin (110) composé d'au moins un semi-conducteur au nitrure III formé sur la surface du substrat (102). Le rapport d'occupation spatiale du cristal en colonne fin (110) est plus élevé sur la surface du substrat (102) où le film (108) n'est pas formé que sur le film (108).
(JA)III族窒化物構造体が、基板102表面の所定領域に形成された金属からなる表面を有する膜108と、少なくとも基板102表面上に形成されたIII族窒化物半導体からなる微細柱状結晶110とを含み、前記膜108が形成されていない前記基板102表面上において、前記膜108上よりも前記微細柱状結晶110の空間占有率が高い。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)