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1. (WO2009028682) フラーレン細線付き基盤とその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/028682    国際出願番号:    PCT/JP2008/065579
国際公開日: 05.03.2009 国際出願日: 29.08.2008
IPC:
C01B 31/02 (2006.01)
出願人: NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE [JP/JP]; 2-1, Sengen 1-chome, Tsukuba-shi, Ibaraki 3050047 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SEUNG, Il Cha [KR/JP]; (JP) (米国のみ).
MIYAZAWA, Kunichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIM, Jedeok [KR/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SEUNG, Il Cha; (JP).
MIYAZAWA, Kunichi; (JP).
KIM, Jedeok; (JP)
代理人: NISHIZAWA, Toshio; Kudan-Horie Bldg. 6F 3-14, Kudan-kita 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 102-0073 (JP)
優先権情報:
2007-221960 29.08.2007 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE HAVING FULLERENE FINE WIRE AND METHOD FOR MANUFACTURE THEREOF
(FR) SUBSTRAT AYANT UN FIL FIN DE FULLERÈNE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) フラーレン細線付き基盤とその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a substrate having a fullerene fine wire, which is applicable to a catalyst, a column material, a template for a chemical synthesis, an electric field radiation element, a field effect transistor, a photonic crystal and the like. The substrate having a fullerene fine wire comprises a substrate and a fullerene fine wire arranged in a vertical direction relative to the surface of the substrate.
(FR)L'invention porte sur un substrat ayant un fil fin de fullerène qui est applicable à un catalyseur, une matière en colonne, une matrice pour une synthèse chimique, un élément de radiation de champ électrique, un transistor à effet de champ, un cristal photonique et similaires. Le substrat ayant un fil fin de fullerène comprend un substrat et un fil fin de fullerène disposé dans une direction verticale par rapport à la surface du substrat.
(JA) 触媒、カラム材料、化学合成テンプレート、電界放射素子、電界効果トランジスタ、フォトニック結晶等に適用可能な、基盤の表面に対してフラーレン細線が垂直に配向されているフラーレン細線付き基盤を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)