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1. (WO2009028093) フローセル、放射性フッ素アニオン濃縮装置及び放射性フッ素アニオン濃縮方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/028093    国際出願番号:    PCT/JP2007/067018
国際公開日: 05.03.2009 国際出願日: 31.08.2007
IPC:
B01J 19/08 (2006.01), B01D 59/38 (2006.01), B01J 19/00 (2006.01), G01T 1/161 (2006.01), G21H 5/00 (2006.01)
出願人: SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 1, Nishinokyo-kuwabaracho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048511 (JP) (米国を除く全ての指定国).
THE RITSUMEIKAN TRUST [JP/JP]; 1-7, Toganoochou, Nishinokyou, Nakagyou-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6038577 (JP) (米国を除く全ての指定国).
NAKANISHI, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KONISHI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKA, Keisuke [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: NAKANISHI, Hiroaki; (JP).
KONISHI, Satoshi; (JP).
NAKA, Keisuke; (JP)
代理人: NOGUCHI, Shigeo; Noguchi Patent Office, Rapport Nanba Bldg. 9F 8-1, Motomachi 2-chome Naniwa-ku, Osaka-shi Osaka 5560016 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) FLOW CELL, APPARATUS FOR CONCENTRATING RADIOACTIVE FLUORINE ANION, AND METHOD OF CONCENTRATING RADIOACTIVE FLUORINE ANION
(FR) CELLULE D'ÉCOULEMENT, APPAREIL PERMETTANT LA CONCENTRATION D'ANION FLUOR RADIOACTIF ET PROCÉDÉ DE CONCENTRATION D'ANION FLUOR RADIOACTIF
(JA) フローセル、放射性フッ素アニオン濃縮装置及び放射性フッ素アニオン濃縮方法
要約: front page image
(EN)A flow cell (2) which is constituted of insulating substrates (2a and 2b). The two substrates (2a and 2b) have been directly bonded to each other by a bonding method for attaining tenacious bonding, e.g., anodic bonding or hydrofluoric acid bonding. A channel (6) has been formed at the interface between the substrates (2a and 2b). That part of the substrate (2a) which faces the channel (6) has a carbon electrode (4a) formed thereon by sintering a pasty carbonaceous material, the electrode (4a) extending along the channel (6). On the other hand, the substrate (2b) has a groove (6a) serving as the channel (6), and has an electrode (4b) comprising a metal film formed on the bottom of the groove (6a).
(FR)L'invention porte sur une cellule d'écoulement (2) constituée de substrats isolants (2a et 2b). Les deux substrats (2a et 2b) sont directement liés l'un à l'autre au moyen d'un procédé permettant d'obtenir une liaison tenace, tell qu'une liaison anodique ou lune liaison par acide fluorhydrique. Un canal (6) est formé au niveau de l'interface entre les deux substrats (2a et 2b). La face du substrat (2a) tournée vers le canal (6) comporte une électrode carbone (4a) formée sur ladite face par frittage d'une matière carbonée pâteuse, ladite électrode (4a) s'étendant le long du canal (6). De l'autre côté, le substrat (2b) présente un sillon (6a) faisant office de canal (6), et comporte une électrode (4b) comprenant un film métallique formé dans le fond du sillon (6a).
(JA) フローセル2は絶縁性の基板2a,2bにより構成されている。両基板2a,2bは例えば陽極接合やフッ酸接合など堅牢な接合方法により直接接合されている。基板2aと2bの対向面には流路6が形成されており、その流路6内で基板2a上には、ペースト状の炭素材料を焼結させてなる炭素電極4aが流路6に沿って形成されている。一方、基板2bにはその流路6をなす溝6aが形成され、その溝6aの底面に金属膜からなる電極4bが形成されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)