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1. (WO2009025257) 基板処理装置及び基板処理方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/025257    国際出願番号:    PCT/JP2008/064702
国際公開日: 26.02.2009 国際出願日: 18.08.2008
IPC:
H01L 21/677 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TADA, Noritomo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SASAKI, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HORIUCHI, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TADA, Noritomo; (JP).
SASAKI, Yoshiaki; (JP).
HORIUCHI, Takashi; (JP)
代理人: YOSHITAKE, Kenji; Kyowa Patent & Law Office Room 323, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 1000005 (JP)
優先権情報:
2007-214062 20.08.2007 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置及び基板処理方法
要約: front page image
(EN)A substrate processing device has a loading port (12) into which a conveyance container that receives substrates is loaded, substrate conveyance means (17) for taking out the substrates from the conveyance container (10) that has been loaded into the loading port (12) and conveying the taken out substrates, a processing section (51) for applying predetermined processing to the substrates conveyed by the substrate conveyance means (17), and a control section (2) for setting, based on information on the degree of slip of the rear surfaces of the substrates, the speed of conveyance of the substrates by the substrate conveyance means (17).
(FR)L'invention porte sur un dispositif de traitement de substrat qui a un orifice de chargement (12) à l'intérieur duquel un conteneur de transport qui reçoit des substrats est chargé, des moyens de transport de substrat (17) pour prélever les substrats du conteneur de transport (10) qui a été chargé dans l'orifice de chargement (12) et transporter les substrats extraits, une section de traitement (51) pour appliquer un traitement prédéterminé aux substrats transportés par les moyens de transport de substrat (17) et une section de commande (2) pour régler, sur la base d'information sur le degré de glissement des surfaces arrière des substrats, la vitesse de transport des substrats par les moyens de transport de substrat (17).
(JA) 本発明は、複数枚の基板を収納した搬送容器が搬入される搬入ポート(12)と、前記搬入ポート(12)に搬入された搬送容器(10)から前記基板を取り出して搬送する基板搬送手段(17)と、前記基板搬送手段(17)によって搬送された前記基板に対して、所定の処理を行う処理部(51)と、前記基板の裏面の滑り度合いの情報に基づいて、前記基板搬送手段(17)による基板の搬送速度を設定する制御部(2)と、を備えたことを特徴とする基板処理装置である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)