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1. (WO2009025077) 耐化学性シリカガラス及び耐化学性シリカガラスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/025077    国際出願番号:    PCT/JP2008/002196
国際公開日: 26.02.2009 国際出願日: 12.08.2008
IPC:
C03B 20/00 (2006.01), C03C 3/06 (2006.01)
出願人: SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. [JP/JP]; 1-22-2, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YAMAGATA, Shigeru [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
USUI, Tomomi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YAMAGATA, Shigeru; (JP).
USUI, Tomomi; (JP)
代理人: YOSHIMIYA, Mikio; 1st Shitaya Bldg. 8F 6-11, Ueno 7-chome Taito-ku, Tokyo 110-0005 (JP)
優先権情報:
2007-217526 23.08.2007 JP
発明の名称: (EN) CHEMICAL-RESISTANT SILICA GLASS AND METHOD FOR PRODUCING CHEMICAL-RESISTANT SILICA GLASS
(FR) VERRE DE SILICE RÉSISTANT AUX PRODUITS CHIMIQUES ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN VERRE DE SILICE RÉSISTANT AUX PRODUITS CHIMIQUES
(JA) 耐化学性シリカガラス及び耐化学性シリカガラスの製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a silica glass having at least an OH group content of 1-50 wt. ppm, a fictive temperature of 800-1100˚C, and metal impurity concentrations of Li, Na, K, Mg, Ca, Cr, Fe, Ni, Cu and Zn of not more than 200 wt. ppm. Also disclosed is a method for producing such a silica glass. This silica glass is excellent in chemical resistance, and is suppressed in changes of physical properties such as strength deterioration and transmittance decrease due to etching in the surface even when it is used as a material for a chemical reactor for a long time.
(FR)L'invention concerne un verre de silice ayant au moins une teneur en groupes OH de 1 à 50 ppm en poids, une température fictive de 800 à 1100°C, et des concentrations d'impuretés métalliques de Li, Na, K, Mg, Ca, Cr, Fe, Ni, Cu et Zn de pas plus de 200 ppm en poids. L'invention concerne également un procédé de production de ce verre de silice. Ce verre de silice est excellent en terme de résistance chimique et est exempt de variations de propriétés physiques telles qu'une détérioration de la résistance et une diminution de la transmittance dues à une attaque chimique à la surface même lorsqu'il est utilisé en tant que matériau pour réacteur chimique pendant une longue période de temps.
(JA) 本発明は、シリカガラスにおいて、少なくとも、OH基含有量が1~50wt.ppmであり、仮想温度が800~1100°Cであり、Li、Na、K、Mg、Ca、Cr、Fe、Ni、Cu、Znの各金属不純物濃度がそれぞれ200wt.ppb以下であるシリカガラス、及び、このようなシリカガラスを製造するためのシリカガラスの製造方法である。これにより、化学反応装置の材料として長期間使用しても、材料表面のエッチング等による強度低下及び透過率低下の物性変化が抑制された、耐化学性に優れたシリカガラス、及びその製造方法が提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)