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1. (WO2009022395) プラズマディスプレイパネル用基板構体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/022395    国際出願番号:    PCT/JP2007/065760
国際公開日: 19.02.2009 国際出願日: 10.08.2007
IPC:
H01J 9/02 (2006.01), H01J 11/02 (2006.01)
出願人: Hitachi, Ltd. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KIFUNE, Motonari [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KIFUNE, Motonari; (JP)
代理人: NOGAWA, Shintaro; Nogawa Patent Office Minamimorimachi Park Bldg. 1-3, Nishitenma 5-chome, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) PROCESS FOR MANUFACTURING SUBSTRATUM STRUCTURE FOR PLASMA DISPLAY PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE STRUCTURE DE SUBSTRAT POUR UN PANNEAU D'AFFICHAGE AU PLASMA
(JA) プラズマディスプレイパネル用基板構体の製造方法
要約: front page image
(EN)A process for manufacturing a substratum structure for PDP, in which bubbling by an interfacial reaction between electrode and glass material layer can be inhibited. There is provided a process for manufacturing a substratum structure for PDP, including the step of forming a glass material layer containing a glass material so as to cover an electrode formed on a substratum and firing the glass material layer into a dielectric layer, characterized in that during the firing, the glass material is crystallized around the electrode to thereby form a barrier layer.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'une structure de substrat pour un panneau d'affichage au plasma (PDP), dans lequel un bullage par une réaction interfaciale entre une électrode et une couche de matériau en verre peut être empêché. L'invention porte sur un procédé de fabrication d'une structure de substrat pour un PDP, comprenant l'étape de formation d'une couche de matériau en verre contenant un matériau en verre de façon à recouvrir une électrode formée sur un substrat et de cuisson de la couche de matériau en verre en une couche diélectrique, caractérisée par le fait que pendant la cuisson, le matériau en verre est cristallisé autour de l'électrode pour ainsi former une couche barrière.
(JA) 電極とガラス材料層の界面での反応による泡の発生を抑制することができるPDP用基板構体の製造方法を提供する。本発明のPDP用基板構体の製造方法は、基板上に形成された電極を覆うようにガラス材料を含むガラス材料層を形成し、前記ガラス材料層を焼成することによって誘電体層を形成する工程を備え、前記焼成中に前記電極の周囲において前記ガラス材料を結晶化させてバリア層を形成することを特徴とする。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)