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1. (WO2009020150) 複合集束イオンビーム装置及びそれを用いた加工観察方法、加工方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2009/020150    国際出願番号:    PCT/JP2008/064122
国際公開日: 12.02.2009 国際出願日: 06.08.2008
IPC:
H01J 37/317 (2006.01), G01N 1/28 (2006.01), H01J 37/08 (2006.01), H01J 37/20 (2006.01), H01J 37/30 (2006.01)
出願人: SII NANOTECHNOLOGY INC. [JP/JP]; 8, Nakase 1-chome, Mihama-ku, Chiba-shi Chiba 2618507 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KAITO, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TASHIRO, Junichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SUGIYAMA, Yasuhiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IWASAKI, Kouji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUJII, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
AITA, Kazuo [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
OGAWA, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KAITO, Takashi; (JP).
TASHIRO, Junichi; (JP).
SUGIYAMA, Yasuhiko; (JP).
IWASAKI, Kouji; (JP).
FUJII, Toshiaki; (JP).
AITA, Kazuo; (JP).
OGAWA, Takashi; (JP)
代理人: MATSUSHITA, Yoshiharu; AIOS Hiroo Building 807 11-2 Hiroo 1-chome Shibuya-ku Tokyo 1500012 (JP)
優先権情報:
2007-207097 08.08.2007 JP
発明の名称: (EN) COMPOSITE FOCUSED ION BEAM APPARATUS, AND MACHINING MONITORING METHOD AND MACHINING METHOD USING COMPOSITE FOCUSED ION BEAM APPARATUS
(FR) APPAREIL COMPOSITE À FAISCEAU IONIQUE FOCALISÉ, ET PROCÉDÉ DE SURVEILLANCE D'USINAGE ET PROCÉDÉ D'USINAGE UTILISANT UN APPAREIL COMPOSITE À FAISCEAU IONIQUE FOCALISÉ
(JA) 複合集束イオンビーム装置及びそれを用いた加工観察方法、加工方法
要約: front page image
(EN)A composite focused ion beam apparatus is provided with a first ion beam irradiation system (10) having a liquid metal ion source for generating first ions; and a second ion beam irradiation system (20) having a gas field ion source for generating second ions. The beam diameter of the second ion beam (20A) outputted from the second ion beam irradiation system (20) is smaller than the beam diameter of the first ion beam (10A) outputted from the first ion beam irradiation system (10). Since the second ion beam irradiation system (20) having the gas field ion source can reduce the beam diameter to 1nm or smaller, monitoring with high resolution can be performed.
(FR)L'invention concerne un appareil composite à faisceau ionique focalisé qui comprend un premier système d'émission de faisceau ionique (10) ayant une source d'ion métallique liquide pour générer des premiers ions ; et un second système d'émission de faisceau ionique (20) ayant une source d'ions à ionisation de champ gazeuse pour générer des seconds ions. Le diamètre de faisceau du second faisceau ionique (20A) émis par le second système d'émission de faisceau ionique (20) est inférieur au diamètre de faisceau du premier faisceau ionique (10A) émis par le premier système d'émission de faisceau ionique (10). Etant donné que le second système d'émission de faisceau ionique (20) ayant la source d'ions à ionisation de champ gazeuse peut réduire le diamètre de faisceau jusqu'à 1nm ou moins, une surveillance à haute résolution peut être effectuée.
(JA) 本発明の複合集束イオンビーム装置は、第1のイオンを発生させる液体金属イオン源を備えた第1のイオンビーム照射系(10)と、第2のイオンを発生させるガスフィールドイオン源を備えた第2のイオンビーム照射系(20)とを有し、第2のイオンビーム照射系(20)から射出される第2のイオンビーム(20A)のビーム径が、第1のイオンビーム照射系(10)から射出される第1のイオンビーム(10A)のビーム径よりも小さい。 本発明のガスフィールドイオン源を備えた第2のイオンビーム照射系(20)は、ビーム径を1nm以下に絞ることができるため、高分解能の観察が可能である。 
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)