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1. (WO2008143228) ウエハ端面検査装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/143228    国際出願番号:    PCT/JP2008/059168
国際公開日: 27.11.2008 国際出願日: 20.05.2008
IPC:
G01N 21/956 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MOCHIDA, Daisaku [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WATANABE, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAGUCHI, Naoshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
ENDO, Kazumasa [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MOCHIDA, Daisaku; (JP).
WATANABE, Takashi; (JP).
SAKAGUCHI, Naoshi; (JP).
ENDO, Kazumasa; (JP)
代理人: OKADA, FUSHIMI AND HIRANO, PC; NE Kudan Bldg., 2-7, Kudan-minami 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1020074 (JP)
優先権情報:
2007-134492 21.05.2007 JP
2008-098250 04.04.2008 JP
発明の名称: (EN) WAFER END SURFACE INSPECTING APPARATUS
(FR) APPAREIL D'EXAMEN DE SURFACE D'EXTRÉMITÉ DE TRANCHE
(JA) ウエハ端面検査装置
要約: front page image
(EN)Illuminating optical systems of two types are arranged for illuminating a wafer. The optical system of one type is a well-known epi-illuminating system, which illuminates a wafer (1) by reflecting illuminating light generated by an illuminating optical system (6) by a half mirror, polarizing the reflected light and passing the polarized light through a part of an imaging optical system (4). The optical system of the other type is a diffused illumination optical system (7), which is arranged to face an end surface of the wafer (1) and performs diffused illumination to the wafer (1) from a diagonal direction. The diffused illumination optical system (7) is, for instance, a surface light source wherein a diffusion plate (12) is arranged on the surface of a substrate whereupon many LEDs (11) are arranged, and is configured to illuminate a bevel section (3) from a wide region at various angles. A wafer surface outer circumference section (2) and the surface bevel section (3) can be illuminated at the same time by using the two types of illuminating systems at the same time, and defects that exist on the wafer surface outer circumference section (2) and on the surface bevel section (3) can be detected at the same time.
(FR)Des systèmes optiques d'éclairage de deux types sont disposés pour éclairer une tranche. Le système optique d'un type est un système d'épi-éclairage bien connu, qui éclaire une tranche (1) par réflexion de la lumière d'éclairage générée par un système optique d'éclairage (6) par un demi-miroir, polarisation de la lumière réfléchie et passage de la lumière polarisée à travers une partie d'un système optique d'imagerie (4). Le système optique de l'autre type est un système optique d'éclairage diffusé (7), qui est disposé pour être tourné vers une surface d'extrémité de la tranche (1) et réalise un éclairage diffusé vers la tranche (1) dans une direction diagonale. Le système optique d'éclairage diffusé (7) est, par exemple, une source de lumière de surface dans laquelle une plaque de diffusion (12) est disposée sur la surface d'un substrat sur lequel de nombreuses DEL (11) sont disposées, et est configuré pour éclairer une section en biseau (3) à partir d'une région large à divers angles. Une section périphérique externe de surface de tranche (2) et la section en biseau de surface (3) peuvent être éclairées en même temps à l'aide des deux types de systèmes d'éclairage en même temps, et des défauts qui sont présents sur la section périphérique externe de surface de tranche (2) et sur la section de biseau de tranche (3) peuvent être détectés en même temps.
(JA) ウエハを照明する照明光学系は2種類設けられている。1つは照明光学系6で発生した照明光を、ハーフミラーで反射させて偏向させ、結像光学系4の一部を通してウエハ1を照明する落射照明系で周知のものである。他方はウエハ1の端面に正対して配置され、ウエハ1を斜めから拡散照明する拡散照明光学系7である。拡散照明光学系7は例えば基板上にLED11を多数並べたものの表面に拡散板12を配置した面光源で、広い領域から様々な角度でベベル部3を照明できる構成となっている。2種類の照明系を同時に使用することでウエハ表面外周部2と表面ベベル部3を同時に照明することができ、ウエハ表面外周部2と表面ベベル部3の双方に存在する欠陥を同時に検出することが可能となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)