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1. (WO2008143083) レーザ処理装置のガス噴射手段
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/143083    国際出願番号:    PCT/JP2008/058836
国際公開日: 27.11.2008 国際出願日: 14.05.2008
IPC:
H01L 21/20 (2006.01), H01L 21/268 (2006.01)
出願人: The Japan Steel Works, Ltd. [JP/JP]; 11-1, Osaki 1-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KATO, Osamu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAWAI, Miki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KATO, Osamu; (JP).
SAWAI, Miki; (JP)
代理人: YOKOI, Koki; 2nd Floor, Mita 3-chome BLDG. 4-11, Mita 3-chome Minato-ku, Tokyo 1080073 (JP)
優先権情報:
2007-136156 23.05.2007 JP
発明の名称: (EN) GAS INJECTION MEANS FOR LASER PROCESSING APPARATUS
(FR) MOYEN D'INJECTION DE GAZ POUR UN APPAREIL DE TRAITEMENT LASER
(JA) レーザ処理装置のガス噴射手段
要約: front page image
(EN)Gas atmosphere, which is of a laser irradiation section and is to be applied to a body to be processed, is excellently formed in a laser processing apparatus. The laser processing apparatus performs process to the body to be processed (amorphous semiconductor film (2)) by irradiating the body with a laser beam (6). The laser processing apparatus is provided with a gas injection means which injects a gas for forming irradiation atmosphere to the vicinity of the laser beam irradiation portion. The injection means is provided with an introducing section (gas supply pipe (12)) of the gas; a gas injection port (15) from which the gas is injected toward the body to be processed; and a gas channel (13) arranged from the gas introducing section to the gas injection port. The gas channel has a flow uniformizing surface, which makes a gas flow uniform in a direction intersecting with the flow direction of the gas by facing the gas flow direction to disturb the gas flow. Thus, uniform irradiation atmosphere can be formed in the vicinity of the laser beam irradiation portion of the body to be processed, and uniform and high quality process by laser beam irradiation can be performed.
(FR)L'atmosphère gazeuse, qui appartient à une section d'irradiation laser et doit être appliquée à un corps devant être traité, est parfaitement formée dans un appareil de traitement laser. L'appareil de traitement laser applique un processus sur le corps devant être traité (film semi-conducteur amorphe (2)) en irradiant le corps à l'aide d'un faisceau laser (6). L'appareil de traitement laser est équipé d'un moyen d'injection de gaz qui injecte un gaz permettant de former une atmosphère d'irradiation à proximité de la partie d'irradiation du faisceau laser. Le moyen d'injection est équipé d'une section d'introduction (tuyau d'alimentation en gaz (12)) de gaz ; d'un orifice d'injection de gaz (15) à partir duquel le gaz est injecté vers le corps devant être traité ; et d'un canal de gaz (13) disposé de la section d'introduction de gaz à l'orifice d'injection de gaz. Le canal de gaz est pourvu d'une surface d'uniformisation d'écoulement, qui permet d'obtenir un écoulement de gaz uniforme dans une direction croisant la direction d'écoulement du gaz en faisant face à la direction d'écoulement de gaz afin de perturber l'écoulement de gaz. Il est ainsi possible de former une atmosphère d'irradiation uniforme à proximité de la partie d'irradiation de faisceau laser du corps devant être traité, et d'obtenir un processus uniforme et de qualité par irradiation de faisceau.
(JA)レーザ処理装置における被処理体へのレーザ照射部のガス雰囲気を良好に形成する。  被処理体(非晶質半導体薄膜2)にレーザ光6を照射して前記被処理体の処理を行うレーザ処理装置に備えられ、照射雰囲気を形成するガスを前記被処理体の前記レーザ光照射部分近傍に噴射するガス噴射手段であって、該噴射手段は、前記ガスの導入部(ガス供給管12)と、前記ガスが前記被処理体に向けて噴射されるガス噴射口15と、前記ガス導入部から前記ガス噴射口に至るガス流路13を有しており、該ガス流路に、ガスの流れ方向に対面してガス流を乱すことでガスの流れ方向と交差する方向におけるガス流を均す均流面が設けられている。被処理体のレーザ光照射部付近に均等な照射雰囲気を形成でき、レーザ光の照射による処理を均等かつ良質に行うことができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)