WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2008143029) 研磨パッドの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/143029    国際出願番号:    PCT/JP2008/058619
国際公開日: 27.11.2008 国際出願日: 09.05.2008
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), B24B 37/013 (2012.01), B24B 37/20 (2012.01)
出願人: TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD. [JP/JP]; 17-18, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508661 (JP) (米国を除く全ての指定国).
DOURA, Masato [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HIROSE, Junji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Kenji [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
FUKUDA, Takeshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SATO, Akinori [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: DOURA, Masato; (JP).
HIROSE, Junji; (JP).
NAKAMURA, Kenji; (JP).
FUKUDA, Takeshi; (JP).
SATO, Akinori; (JP)
代理人: UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE; SHIN-OSAKA MT Bldg. 1 13-9, Nishinakajima 5-chome Yodogawa-ku, Osaka-shi Osaka 5320011 (JP)
優先権情報:
2007-130535 16.05.2007 JP
発明の名称: (EN) POLISHING PAD MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE TAMPON À POLIR
(JA) 研磨パッドの製造方法
要約: front page image
(EN)Provided is a polishing pad manufacturing method which eliminates slurry leakage and has excellent optical detection accuracy. The polishing pad manufacturing method includes a step of forming a groove for injecting a light transmissive region forming material on the polishing rear side of a polishing layer; a step of forming a light transmissive region by injecting the light transmissive region forming material into the groove and hardening the material; and a step of exposing the light transmissive region from a polishing front surface by buffing the polishing front side of the polishing layer.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de tampon à polir qui élimine une fuite de bouillie et a une excellente précision de détection optique. Le procédé de fabrication de tampon à polir comprend une étape de formation d'une rainure pour injecter un matériau de formation de région transmettant la lumière sur le côté arrière de polissage d'une couche de polissage ; une étape de formation d'une région transmettant la lumière par l'injection du matériau de formation de région transmettant la lumière à l'intérieur de la rainure et de durcissement du matériau ; et une étape d'exposition de la région transmettant la lumière à partir d'une surface avant de polissage par ponçage du côté avant de polissage de la couche de polissage.
(JA) スラリー漏れを防止することができ、かつ光学的検知精度に優れる研磨パッドを製造する方法を提供することを目的とする。本発明の研磨パッドの製造方法は、研磨層の研磨裏面側に光透過領域形成材料を注入するための溝を形成する工程、前記溝内に光透過領域形成材料を注入して硬化させることにより光透過領域を形成する工程、及び研磨層の研磨表面側をバフ掛けすることにより前記光透過領域を研磨表面に露出させる工程を含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)