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1. (WO2008140087) 導電性樹脂組成物および導電性樹脂膜並びに導電性樹脂膜の形成方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/140087    国際出願番号:    PCT/JP2008/058793
国際公開日: 20.11.2008 国際出願日: 13.05.2008
IPC:
C08L 65/00 (2006.01), C08G 61/00 (2006.01), C08J 5/00 (2006.01), C08J 7/00 (2006.01), H01B 1/12 (2006.01), H01L 21/368 (2006.01)
出願人: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Koraibashi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5410043 (JP) (米国を除く全ての指定国).
Kyoto University [JP/JP]; 36-1, Yoshidahonmachi, Sakyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6068501 (JP) (JP only).
OZAWA, Fumiyuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMAMOTO, Yasutaka [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
WAKIOKA, Masayuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Jun-ichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMASAKI, Hayahide [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OZAWA, Fumiyuki; (JP).
YAMAMOTO, Yasutaka; (JP).
WAKIOKA, Masayuki; (JP).
NAKAMURA, Jun-ichi; (JP).
YAMASAKI, Hayahide; (JP)
代理人: UEKI, Kyuichi; Fujita-Toyobo Building 9th floor, 1-16, Dojima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300003 (JP)
優先権情報:
2007-128367 14.05.2007 JP
2008-023197 01.02.2008 JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR ELECTROCONDUCTIVE RESIN, ELECTROCONDUCTIVE RESIN FILM, AND METHOD FOR FORMING ELECTROCONDUCTIVE RESIN FILM
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE ÉLECTROCONDUCTRICE, FILM DE RÉSINE ÉLECTROCONDUCTRICE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DU FILM DE RÉSINE ÉLECTROCONDUCTRICE
(JA) 導電性樹脂組成物および導電性樹脂膜並びに導電性樹脂膜の形成方法
要約: front page image
(EN)This invention provides an electroconductive resin film having a high level of charge mobility, a resin composition for the electroconductive resin film, and a method for electroconductive resin film formation. The resin composition for electroconductive resin film formation has such a property that, upon light irradiation, the charge mobility of the electroconductive resin film is improved from less than 1.0 x 10-6 cm2V-1s-1 to not less than 1.0 x 10-5 cm2V-1s-1. The electroconductive resin film is an electroconductive resin film formed from the resin composition. Before light irradiation, the charge mobility of the resin film is less than 1.0 x 10-6 cm2V-1s-1, and, after light irradiation, the charge mobility is not less than 1.0 x 10-5 cm2V-1s-1. The method for electroconductive resin film formation comprises the step of forming a coating film from a solution for electroconductive resin film formation, containing a resin composition for electroconductive resin film formation, and the step of applying light with a wavelength of 200 to 600 nm to the coating film.
(FR)La présente invention concerne un film de résine électroconductrice ayant un niveau élevé de mobilité de la charge. L'invention concerne également une composition de résine pour le film de résine électroconductrice, et un procédé de formation du film de résine électroconductrice. La composition de résine pour la formation du film de résine électroconductrice a une propriété telle que, lors de l'irradiation lumineuse, la mobilité de la charge du film de résine électroconductrice est améliorée d'une valeur inférieure à 1,0 x 10-6 cm2V-1s-1 à une valeur supérieure ou égale à 1,0 x 10-5 cm2V-1s-1. Le film de résine électroconductrice est un film de résine électroconductrice formé à partir de la composition de résine. Avant irradiation lumineuse, la mobilité de la charge du film de résine est inférieure à 1,0 x 10-6 cm2V-1s-1, et, après irradiation lumineuse, la mobilité de la charge est supérieure à 1,0 x 10-5 cm2V-1s-1. Le procédé de formation du film de résine électroconductrice comprend l'étape de formation d'un film de revêtement à partir d'une solution pour la formation d'un film de résine électroconductrice, contenant une composition de résine pour la formation du film de résine électroconductrice, et l'étape d'application de la lumière à une longueur d'onde allant de 200 à 600 nm sur le film de revêtement.
(JA) 高い電荷移動度を示す導電性樹脂膜およびその樹脂組成物ならびに導電性樹脂膜の形成方法を提供する。本発明は、導電性樹脂膜形成用の樹脂組成物であって、光照射により、導電性樹脂膜の電荷移動度が1.0×10-6cm2V-1s-1未満から1.0×10-5cm2V-1s-1以上に向上する樹脂組成物、並びに、当該樹脂組成物から得られる導電性樹脂膜であって、光照射射前の当該樹脂膜の電荷移動度が1.0×10-6cm2V-1s-1未満であり、光照射後の電荷移動度が1.0×10-5cm2V-1s-1以上である導電性樹脂膜を含む。当該導電性樹脂膜の形成方法は、上記導電性樹脂膜形成用樹脂組成物を含む導電性樹脂膜形成溶液により塗膜を形成する工程、および、上記塗膜に波長200~600nmの光を光照射する工程、を含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)