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1. (WO2008139913) 露光方法及び露光用平板
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/139913    国際出願番号:    PCT/JP2008/058170
国際公開日: 20.11.2008 国際出願日: 28.04.2008
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3 Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008331 (JP) (米国を除く全ての指定国).
ARAI, Dai [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: ARAI, Dai; (JP)
代理人: OMORI, Satoshi; Omori Patent Office, 2075-2-501, Noborito, Tama-ku, Kawasaki-shi Kanagawa 2140014 (JP)
優先権情報:
60/924,372 10.05.2007 US
発明の名称: (EN) EXPOSURE METHOD AND FLAT PLATE FOR EXPOSURE
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION ET PLAQUE PLATE POUR EXPOSITION
(JA) 露光方法及び露光用平板
要約: front page image
(EN)Provided is an exposure method wherein influence of fluctuation of a gas between a projection optical system and a photosensitive board, such as a wafer, is suppressed and planarity of the photosensitive board is maintained high during exposure as needed. In the exposure method for exposing a wafer (W) to exposure light through a projection optical system (PL), a glass substrate (29) which integrally moves with the wafer (W) and transmits exposure light is arranged between the projection optical system (PL) and the wafer (W), a liquid (LQ) which transmits exposure light is supplied between the projection optical system (PL) and the glass substrate (29), and the wafer (W) is exposed to exposure light through the projection optical system (PL), the liquid (LQ) and the glass substrate (29).
(FR)L'invention concerne un procédé d'exposition selon lequel l'influence de la fluctuation d'un gaz entre un système optique de projection et une carte photosensible, telle qu'une tranche, est supprimée et la planarité de la carte photosensible est maintenue élevée pendant l'exposition si nécessaire. Dans le procédé d'exposition permettant d'exposer une tranche (W) à une lumière d'exposition à travers un système optique de projection (PL), un substrat en verre (29) qui est mobile d'un seul tenant avec la tranche (W) et qui transmet une lumière d'exposition, est disposé entre le système optique de projection (PL) et la tranche (W). Un liquide (LQ) qui transmet une lumière d'exposition, est disposé entre le système optique de projection (PL) et le substrat en verre (29), et la tranche (W) est exposée à la lumière d'exposition à travers le système optique de projection (PL), le liquide (LQ) et le substrat en verre (29).
(JA) 投影光学系とウエハ等の感光性基板との間の気体の揺らぎの影響を抑制し、必要に応じて感光性基板の露光中における平面度を高く維持できる露光方法を提供する。露光光で投影光学系(PL)を介してウエハ(W)を露光する露光方法において、投影光学系(PL)とウエハ(W)との間に、ウエハ(W)と一体的に移動するとともに、露光光を透過するガラス板(29)を配置し、投影光学系(PL)とガラス板(29)との間に露光光を透過する液体(LQ)を供給し、露光光で投影光学系(PL)、液体(LQ)、及びガラス板(29)を介してウエハ(W)を露光する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)