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1. (WO2008139764) アクティブマトリクス基板、液晶パネル、アクティブマトリクス基板の製造方法、液晶パネルの製造方法、液晶表示装置、テレビジョン受像機
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/139764    国際出願番号:    PCT/JP2008/053236
国際公開日: 20.11.2008 国際出願日: 26.02.2008
IPC:
G02F 1/1368 (2006.01), G09F 9/30 (2006.01)
出願人: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi Osaka 5458522 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAGUCHI, Yoshihisa; (米国のみ)
発明者: TAGUCHI, Yoshihisa;
代理人: HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041 (JP)
優先権情報:
2007-127358 11.05.2007 JP
発明の名称: (EN) ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL PANEL, METHOD OF MANUFACTURING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL PANEL, LIQUID CRYSTAL DISPLAY EQUIPMENT, AND TELEVISION RECEIVER
(FR) SUBSTRAT À MATRICE ACTIVE, PANNEAU À CRISTAUX LIQUIDES, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT À MATRICE ACTIVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PANNEAU À CRISTAUX LIQUIDES, ÉQUIPEMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET RÉCEPTEUR DE TÉLÉVISION
(JA) アクティブマトリクス基板、液晶パネル、アクティブマトリクス基板の製造方法、液晶パネルの製造方法、液晶表示装置、テレビジョン受像機
要約: front page image
(EN)An active matrix substrate comprising a scan signal line (16), a data signal line (15), pixel electrodes (17yb, 17xa, and 17xb) arranged in the column direction, and retention capacity interconnections (18α and 18β) extended in the row direction. The retention capacity interconnection (18α) is formed in correspondence with a gap between the two pixel electrodes (17xa and 17yb) adjoining in the column direction and forms a capacity with a capacitive electrode (47xa) connected to one (17xa) of the pixel electrodes while forming a capacity with a capacitive electrode (47yb) connected to the other pixel electrode (17yb). The retention capacity interconnection (18α) consists of two electrically connected sub-interconnections (18p and 18q), which are arranged in such a manner that a gap between them may overlap the gap between the two pixel electrodes (17xa and 17yb), thus making it easy to correct the short circuit between the two pixel electrodes (17xa and 17yb).
(FR)Substrat à matrice active comprenant une ligne de signal de balayage (16), une ligne de signal de données (15), des électrodes à pixels (17yb, 17xa, et 17xb) disposées en colonnes, et des interconnexions de capacité de rétention (18α et 18β) étendues en rangées. L'interconnexion de capacité de rétention (18α) est formée en correspondance avec un espace entre les deux électrodes à pixels (17xa et 17yb) adjacentes dans la direction horizontale et forme une capacité avec une électrode capacitive (47xa) reliée à l'une (17xa) des électrodes à pixels tout en formant une capacité avec une électrode capacitive (47yb) reliée à l'autre électrode à pixels (17yb). L'interconnexion de capacité de rétention (18α) se compose de deux sous-interconnexions reliées électriquement (18p et 18q), qui sont disposées afin qu'un espace entre elles puisse chevaucher l'espace entre les deux électrodes à pixels (17xa et 17yb), permettant ainsi de corriger le court-circuit entre les deux électrodes à pixels (17xa et 17yb).
(JA) 走査信号線(16)と、データ信号線(15)と、列方向に並べられた画素電極(17yb・17xa・17xb)と、行方向に伸びる保持容量配線(18α・18β)とを備え、保持容量配線(18α)が列方向に隣り合う2つの画素電極(17xa・17yb)の間隙に対応して設けられ、その一方の画素電極(17xa)に接続された容量電極(47xa)との間で容量が形成されるとともに、他方の画素電極(17yb)に接続された容量電極(47yb)との間で容量が形成されるアクティブマトリクス基板であって、保持容量配線(18α)は電気的に接続された2本のサブ配線からなり、この2本のサブ配線(18p・18q)は、それらの間隙が上記2つの画素電極(17xa・17yb)の間隙に重なるように設けられている。こうすれば、上記2つの画素電極(17xa・17yb)間の短絡を修正し易くなる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)