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1. (WO2008139569) 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/139569    国際出願番号:    PCT/JP2007/059524
国際公開日: 20.11.2008 国際出願日: 08.05.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01)
出願人: ADVANTEST CORPORATION [JP/JP]; 32-1, Asahi-cho 1-chome, Nerima-ku, Tokyo 1790071 (JP) (米国を除く全ての指定国).
KUROKAWA, Masaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YASUDA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: KUROKAWA, Masaki; (JP).
YASUDA, Hiroshi; (JP)
代理人: OKAMOTO, Keizo; OKAMOTO PATENT OFFICE Yamanishi Bldg., 4F 11-7, Nihonbashi Ningyo-cho 3-chome Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE AND ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS
(JA) 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS TO BE SOLVED] An electron beam exposure device and an electron beam exposure method are provided for making it possible to easily shorten a waiting time for setting deflection, so that the throughput can be improved. [MEANS FOR SOLVING THE PROBLEMS] An electron beam exposure device is provided with a electron gun that emits an electron beam, a memory means that stores pattern data, a deflection means that deflects the electron beam, and a control means that seeks a position on a deflection orbit in timing prior to setting the electron beam from the deflection orbit of the electron beam deflected by the deflection means, changes the pattern data based on the position information, and makes the deflection means deflect the electron beam in accordance with the changed pattern data. The deflection means is comprised of a coil. When the control means supplies the electric current to deflect the electron beam, the control means detects an electronic current value that makes the shortest time until a change rate of the electron beam irradiated position becomes smaller than a predetermined value, so that the electronic current value may be supplied to the coil to deflect the electron beam.
(FR)La présente invention a pour objet un dispositif d'exposition de faisceau d'électrons et un procédé d'exposition de faisceau d'électrons afin de permettre de réduire facilement un temps d'attente permettant de définir la déviation, de sorte que le débit puisse être amélioré. Le dispositif d'exposition de faisceau d'électrons selon la présente invention est équipé d'un canon à électrons qui émet un faisceau d'électrons, d'un moyen de mémoire qui stocke les données de motif, d'un moyen de déviation qui dévie le faisceau d'électrons, et d'un moyen de contrôle qui recherche une position sur une orbite de déviation en minutage avant de définir le faisceau d'électrons à partir de l'orbite de déviation du faisceau d'électrons dévié par le moyen de déviation, change les données de motif en se basant sur les informations relatives à la position, et fait en sorte que le moyen de déviation dévie le faisceau d'électrons en fonction des données de motif modifiées. Le moyen de déviation est constitué d'une bobine. Lorsque le moyen de contrôle fournit le courant électrique pour dévier le faisceau d'électrons, le moyen de contrôle détecte une valeur de courant électronique qui réduit au maximum le temps jusqu'à ce qu'un taux de changement de la position irradiée du faisceau d'électrons devienne inférieur à une valeur prédéterminée, de sorte que la valeur de courant électronique puisse être fournie à la bobine pour dévier le faisceau d'électrons.
(JA)【課題】偏向整定待ち時間の短縮を容易に行うことができ、スループットの向上を図ることのできる電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法を提供すること。 【解決手段】電子ビーム露光装置は、電子ビームを放射する電子銃と、パターンデータが格納される記憶手段と、電子ビームを偏向する偏向手段と、偏向手段によって偏向される電子ビームの偏向軌道から電子ビームが整定する前の時点における偏向軌道上の位置を求め、当該位置情報を基にパターンデータを変更し、変更したパターンデータに従って偏向手段に電子ビームを偏向させる制御手段とを備える。偏向手段はコイルで構成され、制御手段はコイルに電流を供給して電子ビームを偏向させたときに電子ビームが照射される位置の変化率が所定の値より小さくなるまでの時間が最短になる電流値を検出し、当該電流値の電流をコイルに供給して電子ビームを偏向させるようにしても良い。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)