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1. (WO2008133311) イマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/133311    国際出願番号:    PCT/JP2008/057981
国際公開日: 06.11.2008 国際出願日: 24.04.2008
IPC:
G03F 7/11 (2006.01), C08F 36/20 (2006.01), C08F 220/22 (2006.01), C08L 33/14 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
出願人: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (米国を除く全ての指定国).
TAKEBE, Yoko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YOKOKOJI, Osamu [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: TAKEBE, Yoko; (JP).
YOKOKOJI, Osamu; (JP)
代理人: SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
優先権情報:
2007-115725 25.04.2007 JP
発明の名称: (EN) RESIST PROTECTIVE FILM COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY
(FR) COMPOSITION DE FILM DE PROTECTION DE RÉSERVE POUR LA LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION
(JA) イマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜組成物
要約: front page image
(EN)Disclosed is a resist protective film composition for immersion lithography. Specifically disclosed is a resist protective film composition for immersion lithography, which contains an alkali-soluble polymer (B) containing a repeating unit (UB) which is formed by polymerization of a polymerizable compound (mb) having a hydroxy group, a carboxy group, a sulfonic acid group, a sulfonylamide group, an amino group or a phosphoric acid group, and a fluorine-containing polymer (F) containing the repeating unit (UB) and a repeating unit (UF) which is formed by polymerization of a polymerizable compound (mf) having a fluorine-containing hydrocarbon group with 2-20 carbon atoms (wherein -O-, -C(O)- or -C(O)O- may be inserted between two carbon atoms).
(FR)L'invention concerne une composition de film de protection de réserve pour la lithographie par immersion. L'invention concerne spécifiquement une composition de film de protection de réserve pour la lithographie par immersion, qui contient un polymère soluble dans un alcali (B) contenant une unité répétitive (UB) formée par la polymérisation d'un composé polymérisable (mb) ayant un groupe hydroxy, un groupe carboxy, un groupe acide sulfonique, un groupe sulfonylamide, un groupe amino ou un groupe acide phosphorique, ainsi qu'un polymère contenant du fluor (F) et contenant l'unité répétitive (UB), et une unité répétitive (UF) formée par la polymérisation d'un composé polymérisable (mf) ayant un groupe hydrocarbone contenant du fluor avec 2 à 20 atomes de carbone (-O-, -C(O)- ou -C(O)O- pouvant être inséré entre deux atomes de carbone).
(JA) イマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜組成物を提供する。  ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホン酸基、スルホニルアミド基、アミノ基またはリン酸基を有する重合性化合物(m)の重合により形成された繰り返し単位(U)を含むアルカリ溶解性の重合体(B)と、炭素数2~20の含フッ素炭化水素基(ただし、炭素原子-炭素原子間に-O-、-C(O)-または-C(O)O-が挿入されていてもよい。)を有する重合性化合物(m)の重合により形成された繰り返し単位(U)および繰り返し単位(U)を含む含フッ素重合体(F)とを含むイマージョンリソグラフィー用レジスト保護膜組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)