国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2008129983) コンベアおよび成膜装置とそのメンテナンス方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/129983 国際出願番号: PCT/JP2008/057339
国際公開日: 30.10.2008 国際出願日: 15.04.2008
IPC:
B65G 49/06 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
B 処理操作;運輸
65
運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
G
運搬または貯蔵装置,例.荷積みまたは荷あげ用コンベヤ;工場コンベヤシステムまたは空気管コンベヤ
49
他の分類に属せず,特殊な目的に適用されることを特徴とする移送装置
05
もろい,または損傷性材料または物品用のもの
06
もろい薄板状材料,例.ガラス板,用のもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
56
連続被覆のために特に適合した装置;真空を維持するための装置,例.真空ロック
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677
移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, Inc. [JP/JP]; 〒2538543 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500 Kanagawa 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP (AllExceptUS)
石野 耕司 ISHINO, Koji [JP/JP]; JP (UsOnly)
中村 肇 NAKAMURA, Hajime [JP/JP]; JP (UsOnly)
松田 麻也子 MATSUDA, Mayako [JP/JP]; JP (UsOnly)
進藤 孝明 SHINDOU, Takaaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
小清水 孝治 KOSHIMIZU, Takaharu [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
石野 耕司 ISHINO, Koji; JP
中村 肇 NAKAMURA, Hajime; JP
松田 麻也子 MATSUDA, Mayako; JP
進藤 孝明 SHINDOU, Takaaki; JP
小清水 孝治 KOSHIMIZU, Takaharu; JP
代理人:
志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒1006620 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 Tokyo 1-9-2, Marunouchi Chiyoda-ku, Tokyo 1006620, JP
優先権情報:
2007-10687716.04.2007JP
発明の名称: (EN) CONVEYOR, AND FILM-FORMING APPARATUS AND MAINTENANCE METHOD THEREOF
(FR) TRANSPORTEUR, ET DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE MAINTENANCE DE CELUI-CI
(JA) コンベアおよび成膜装置とそのメンテナンス方法
要約:
(EN) A conveyor, and a film-forming apparatus and a maintenance method thereof. In a conveyor comprising a frame, a lower supporting mechanism for supporting a carrier on which a substrate is vertically mounted and conveying the carrier, and an upper supporting mechanism for supporting the carrier, the frame is composed of a lower frame and an upper frame, the lower supporting mechanism is provided in the lower frame, the upper supporting mechanism is provided in the upper frame, and the upper frame is movable separately from the lower frame. By rotating the upper frame, a cathode member can be placed in a space formed above the lower frame, so that the distance between a film-forming processing path and a carrier conveyance path can be narrowed. Accordingly, a courtyard of the film-forming apparatus can be narrowed, so that in the conveyor which can convey the carrier and the film-forming apparatus including this conveyor and further including a vacuum processing device and a conveyance system, the installation area thereof can be narrowed.
(FR) L'invention concerne un transporteur, et un dispositif de formation de film et un procédé de maintenance de celui-ci. Dans un transporteur comprenant un cadre, un mécanisme de support inférieur pour supporter un support sur lequel un substrat est monté verticalement et transporter le support, et un mécanisme de support supérieur pour supporter le support, le cadre est composé d'un cadre inférieur et d'un cadre supérieur, le mécanisme de support inférieur est prévu dans le cadre inférieur, le mécanisme de support supérieur est prévu dans le cadre supérieur, et le cadre supérieur peut être déplacé séparément du cadre inférieur. En tournant le cadre supérieur, un élément de cathode peut être placé dans un espace formé au-dessus du cadre inférieur, de sorte que la distance entre un trajet de traitement de formation de film et un trajet de transport de support peut être diminuée. Par conséquent, une surface au sol du dispositif de formation de film peut être diminuée, de sorte que, dans le transporteur qui peut transporter le support et le dispositif de formation de film comprenant ce transporteur et comprenant en outre un dispositif de traitement sous vide et un système de transport, la surface d'installation de celui-ci peut être réduite.
(JA)  このコンベアおよび成膜装置とそのメンテナンス方法は、フレームと、基板が縦型に載置されたキャリアを支持すると共にキャリアを搬送する下部支持機構と、キャリアを支持する上部支持機構と、を備えたコンベアにおいて、フレームが、下部フレームと上部フレームとで構成され、下部支持機構が下部フレームに設けられ、上部支持機構が上部フレームに設けられ、上部フレームが下部フレームと分離して移動可能に構成されている。そこで、上部フレームを回動させることにより、下部フレームの上方に形成された空間に、カソード部材を配置することができるため、成膜処理経路とキャリア搬送経路との間隔を狭くすることができる。したがって、成膜装置の中庭を狭くすることができるため、キャリアを搬送可能なコンベアおよび、このコンベアを備え、真空処理装置および搬送システムを備えた成膜装置において、その設置面積を狭小化することが可能である。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020090117822US20100126415CN101641272JP4839405