国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2008129925) ポリユリア膜及びその成膜方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/129925 国際出願番号: PCT/JP2008/056488
国際公開日: 30.10.2008 国際出願日: 01.04.2008
IPC:
C23C 14/12 (2006.01) ,C08G 18/08 (2006.01) ,C08G 18/32 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
12
有機質材料
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18
イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06
活性水素を有する化合物との
08
方法
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
18
イソシアネートまたはイソチオシアネートの重合生成物
06
活性水素を有する化合物との
28
活性水素含有使用化合物に特徴のあるもの
30
低分子量化合物
32
ポリヒドロキシ化合物;ポリアミン;ヒドロキシアミン
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, Inc. [JP/JP]; 〒2538543 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 Kanagawa 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP (AllExceptUS)
小島プレス工業株式会社 KOJIMA PRESS INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 〒4718588 愛知県豊田市下市場町3丁目30番地 Aichi 30, Shimoichiba-cho 3-chome, Toyota-shi, Aichi 4718588, JP (AllExceptUS)
入倉 鋼 IRIKURA, Hagane [JP/JP]; JP (UsOnly)
大森 大輔 OMORI, Daisuke [JP/JP]; JP (UsOnly)
野口 真淑 NOGUCHI, Masumi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
入倉 鋼 IRIKURA, Hagane; JP
大森 大輔 OMORI, Daisuke; JP
野口 真淑 NOGUCHI, Masumi; JP
代理人:
清水 善廣 SHIMIZU, Yoshihiro; 〒1690075 東京都新宿区高田馬場2丁目14番4号八城ビル3階 Tokyo 3rd Floor, Yashiro Building 14-4, Takadanobaba 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1690075, JP
優先権情報:
2007-10689816.04.2007JP
発明の名称: (EN) POLYUREA FILM AND METHOD OF FORMING THE SAME
(FR) FILM POLYURÉE ET SON PROCÉDÉ DE FORMATION
(JA) ポリユリア膜及びその成膜方法
要約:
(EN) A polyurea film excelling in transparency, light stability and mass productivity is formed on a resin molding substratum in accordance with a vacuum vapor deposition polymerization technique. The polyurea film is obtained by a vacuum vapor deposition polymerization conducted using an aromatic alkyl, or alicyclic, or aliphatic diisocyanate monomer and an aromatic alkyl, or alicyclic, or aliphatic diamine monomer. The diisocyanate monomer and the diamine monomer are selected from among those in relationship such that a difference in activation energy needed for detachment from the substratum is 10 kJ or less.
(FR) L'invention concerne un film polyurée présentant d'excellentes propriétés de transparence, de stabilité lumière et de productivité massique. Ce film polyurée est formé sur un substratum moulé en résine selon une technique de polymérisation par dépôt chimique en phase vapeur. Le film polyurée est obtenu par polymérisation par dépôt en phase vapeur sous vide en utilisant un monomère diisocyanate alkyle aromatique, ou alicyclique, ou aliphatique et un monomère diamine alkyle aromatique, ou alicyclique, ou aliphatique. Le monomère diisocyanate et le monomère diamine sont choisis parmi ceux qui sont tels que la différence d'énergie d'activation nécessaire pour permettre de se détacher du substratum est de 10 kJ ou moins.
(JA)  本発明の目的は、真空蒸着重合法により樹脂成形品基材上に、透明性、耐光性、量産性に優れたポリユリア膜を形成する。芳香族アルキル、脂環状又は脂肪族のジイソシアネートモノマーと、芳香族アルキル、脂環状又は脂肪族のジアミンモノマーの真空蒸着重合により得られるポリユリア膜であって、前記ジイソシアネートモノマーと前記ジアミンモノマーは、基材からの脱離に必要な活性化エネルギーの差が10kJ以下の関係にあるものから選択する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020100015856EP2135971JPWO2008129925US20100119712RU2009141978RU0002459886
CN101631889JP5277161TH101997