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1. (WO2008129697) 位相差フィルム用原反フィルム、位相差フィルムおよび液晶表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/129697 国際出願番号: PCT/JP2007/069152
国際公開日: 30.10.2008 国際出願日: 25.09.2007
IPC:
C08J 5/18 (2006.01) ,G02B 5/30 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J
仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
5
高分子物質を含む成形品の製造
18
フイルムまたはシートの製造
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
出願人:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 〒1048260 東京都中央区新川二丁目27番1号 Tokyo 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP (AllExceptUS)
日野享子 HINO, Kyoko [JP/JP]; JP (UsOnly)
鈴木俊彦 SUZUKI, Toshihiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
高畑弘明 TAKAHATA, Hiroaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
桜井孝至 SAKURAI, Takashi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
日野享子 HINO, Kyoko; JP
鈴木俊彦 SUZUKI, Toshihiko; JP
高畑弘明 TAKAHATA, Hiroaki; JP
桜井孝至 SAKURAI, Takashi; JP
代理人:
榎本雅之 ENOMOTO, Masayuki; 〒5418550 大阪府大阪市中央区北浜四丁目5番33号住友化学知的財産センター株式会社内 Osaka c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited, 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5418550, JP
優先権情報:
2007-09120530.03.2007JP
発明の名称: (EN) RAW FILM FOR RETARDATION FILM, RETARDATION FILM, AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY
(FR) FILM DE BASE POUR FILM RETARDATEUR, FILM RETARDATEUR ET AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 位相差フィルム用原反フィルム、位相差フィルムおよび液晶表示装置
要約:
(EN) A film comprising a propylene-based random or block copolymer. It is useful as a raw film for obtaining retardation films through stretching. The copolymer constituting the film has crystals comprising smectic crystals, the proportion of the smectic crystals to all crystals in the copolymer being 90% or higher. This film has an in-plane retardation of 50 nm or less and a thickness of 30-200 µm. The copolymer is one forming a film which, when stretched at a pulling rate of 100 mm/min at such a temperature as to result in a stress at 200% strain of 0.8±0.1 MPa, gives a stress-strain curve in which the parameter (A) calculated with the equation (1) is in the range of 0.0007-0.1. (A) = (B600 - B200)/400 equation (1) (In the equation, B600 and B200 represent stresses (MPa) at strains of 600% and 200%, respectively.)
(FR) La présente invention concerne un film comportant un copolymère à blocs ou un copolymère aléatoire à base de propylène. Ledit film est utilisable en tant que film de base permettant d'obtenir un film retardateur par étirement. Le copolymère constituant le film comporte des cristaux comprenant des cristaux smectiques, la proportion desdits cristaux smectiques par rapport à l'ensemble des cristaux présents dans le copolymère étant supérieure ou égale à 90 %. Ce film présente un retard optique dans le plan inférieur ou égal à 50 nm et une épaisseur de 30 à 200 µm. Le copolymère est un copolymère filmogène qui, lorsqu'il est étiré avec une vitesse de traction de 100 mm/mn à une température de nature à engendrer une contrainte de 0,8 ± 0,1 MPa pour une déformation de 200 %, donne une courbe contrainte/déformation sur laquelle le paramètre (A) calculé au moyen de l'équation (1) se situe dans une fourchette de 0,0007 à 0,1. (A) = (B600 - B200)/400, équation (1) (Dans cette équation, B600 et B200 représentent les contraintes (MPa) pour une déformation de respectivement 600 % et 200 %.)
(JA) 延伸による位相差フィルムの原反フィルムとして有用なプロピレン系ランダムあるいはブロック共重合体からなるフィルムを提供する。 該フィルムを構成する共重合体はスメクチック晶を含有する結晶を有し、該共重合体の全結晶に占めるスメクチック晶の割合が90%以上、該フィルムの面内位相差は50nm以下であり、厚みは30~200μmである。 該共重合体は、それからなるフィルムを、歪み200%における応力が0.8±0.1MPaとなる温度において、引張速度100mm/分で延伸したときの応力-歪み曲線について定義される式(1)により算出されるパラメータ(A)が、0.0007~0.1の範囲内にあるような共重合体である。 (A)=(B600-B200)/400 ・・・式(1) (式中、B600及びB200は、歪み600%及び200%における応力(MPa)を表す。)
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020100016015JP2008276162JP2008276163JP2008276164US20100149470CN101646719