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1. (WO2008129688) 蒸着膜を備えたプラスチック成形品及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/129688 国際出願番号: PCT/JP2007/065104
国際公開日: 30.10.2008 国際出願日: 26.07.2007
IPC:
B32B 9/00 (2006.01) ,B65D 23/08 (2006.01) ,C23C 16/30 (2006.01)
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
B 処理操作;運輸
65
運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
D
物品または材料の保管または輸送用の容器,例.袋,樽,瓶,箱,缶,カートン,クレート,ドラム缶,つぼ,タンク,ホッパー,運送コンテナ;付属品,閉蓋具,またはその取付け;包装要素;包装体
23
他に分類されないびんまたは広口びんの細部
08
被覆または外部コーテング
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22
金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30
化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
出願人:
東洋製罐株式会社 TOYO SEIKAN KAISHA, LTD. [JP/JP]; 〒1008522 東京都千代田区内幸町1丁目3番1号 Tokyo 3-1, Uchisaiwai-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008522, JP (AllExceptUS)
伊藤卓郎 ITO, Takurou [JP/JP]; JP (UsOnly)
森拓己 MORI, Hiroki [JP/JP]; JP (UsOnly)
中尾浩 NAKAO, Hiroshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
山崎和彦 YAMAZAKI, Kazuhiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
伊藤卓郎 ITO, Takurou; JP
森拓己 MORI, Hiroki; JP
中尾浩 NAKAO, Hiroshi; JP
山崎和彦 YAMAZAKI, Kazuhiko; JP
代理人:
小野尚純 ONO, Hisazumi; 〒1050003 東京都港区西新橋1丁目1番21号日本酒造会館 Tokyo Nippon Shuzo bldg. 1-21, Nishi-shimbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 1050003, JP
優先権情報:
2007-10075506.04.2007JP
発明の名称: (EN) MOLDED PLASTIC WITH VAPOR-DEPOSITED FILM AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) PLASTIQUE MOULÉ AVEC FILM DÉPOSÉ EN PHASE VAPEUR ET PROCESSUS DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) 蒸着膜を備えたプラスチック成形品及びその製造方法
要約:
(EN) A plastic molding which comprises a plastic base and a vapor-deposited film formed on the base surface by plasma-assisted CVD. The vapor-deposited film comprises: an organometallic vapor-deposited layer having a C/Si element ratio of 2.5-13 and an O/M element ratio of 0.5 or lower; and a hydrocarbon-based vapor-deposited layer which has a thickness of 40-180 nm and which, in an FT-IR examination, has peaks attributable to CH, CH2, and CH3 in the wavenumber range of 3,200-2,600 cm-1, the proportion of CH2 and that of CH3 being 35% or less and 40% or more, respectively. The base of the plastic molding is prevented from suffering oxidative deterioration, thermal deterioration, etc. during the film deposition. Thus, a plastic molding is provided which is improved in oxygen/water barrier properties, adhesion, and unsusceptibility to the film peeling caused by water.
(FR) Cette invention se rapporte à un moulage plastique qui comprend une base plastique et un film déposé en phase vapeur formé sur la surface de base par CVD (dépôt chimique en phase vapeur) assisté par plasma. Le film déposé en phase vapeur comprend : une couche organométallique déposée en phase vapeur présentant un rapport d'éléments C/Si de 2,5-13 et un rapport d'éléments O/M de 0,5 ou moins ; et une couche à base d'hydrocarbures déposée en phase vapeur qui présente une épaisseur de 40-180 nm et qui, lors d'un examen par FT-IR, comporte des pics dus au CH, au CH2 et au CH3 dans la plage de nombre d'ondes de 3 200-2 600 cm-1, la proportion du CH2 et celle du CH3 étant respectivement de 35 % ou moins et de 40 % ou plus. La base du moule plastique ne peut pas subir de détérioration par oxydation, de détérioration thermique, etc. au cours du dépôt de film. Ainsi, un moulage plastique est créé, lequel présente de meilleures propriétés de barrière oxygène/eau, une meilleure adhérence ainsi qu'une meilleure faculté à résister à un décollement de film provoqué par l'eau.
(JA)  プラスチック基板と、該基板表面にプラズマCVD法により形成された蒸着膜とからなり、前記蒸着膜は、元素比C/Siが2.5乃至13であり、且つ元素比O/Mが0.5以下の範囲にある有機金属系蒸着層と、厚みが40乃至180nmの範囲にあり、且つFT-IR測定で波数3200~2600cm-1の領域にCH,CH及びCHに由来するピークを示し、CH比が35%以下、及びCH比が40%以上である炭化水素系蒸着層とを含む、成膜時における基板の酸化劣化や熱劣化等を防止させ、酸素・水分に対するバリア性、密着性及び水分に対する膜剥離防止性を向上させたプラスチック成形品の提供。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020100014717EP2135734JP2008254794US20100112252CN101678642TH109665