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1. (WO2008129615) TFTアレイ検査装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/129615 国際出願番号: PCT/JP2007/057809
国際公開日: 30.10.2008 国際出願日: 09.04.2007
IPC:
G01R 31/00 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
R
電気的変量の測定;磁気的変量の測定
31
電気的性質を試験するための装置;電気的故障の位置を示すための装置;試験対象に特徴のある電気的試験用の装置で,他に分類されないもの
出願人:
株式会社島津製作所 SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 〒6048511 京都府京都市中京区西ノ京桑原町1 Kyoto 1, Nishinokyo-Kuwabaracho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi Kyoto 6048511, JP (AllExceptUS)
岡本 英樹 OKAMOTO, Hideki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
岡本 英樹 OKAMOTO, Hideki; JP
代理人:
塩野入 章夫 SHIONOIRI, Akio; 〒2510024 神奈川県藤沢市鵠沼橘1丁目1番4号 藤沢セントラルビル6階 Kanagawa Fujisawa-Central Bldg. 6F 1-4, Kugenuma-Tachibana 1-chome Fujisawa-shi, Kanagawa 2510024, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) TFT ARRAY INSPECTION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE CONTRÔLE DE MATRICE DE TRANSISTORS EN COUCHES MINCES
(JA) TFTアレイ検査装置
要約:
(EN) A TFT array inspection device has electron gun units (3) at the top of a main chamber (1) and includes a glass substrate stage (2) within the main chamber (1). This glass substrate stage (2) is provided with a Z-stage (2d) which can be driven in a Z-direction in a position below the electron gun units (3). This leads to a reduction in the size of the main chamber. A glass substrate (10) is movable in the Z-direction within the main chamber (1). Therefore regardless of the positions within the main chamber (1) at which the electron gun units (3) are placed, contact between the glass substrate (10) and a prober frame (6) is performed without interference with the electron gun units (3).
(FR) L'invention concerne un dispositif de contrôle de matrice de transistors en couches minces comportant des unités de canon à électrons (3) dans la partie supérieure d'une chambre principale (1) et comprenant un étage à substrat de verre (2) à l'intérieur de la chambre principale (1). Cet étage à substrat de verre (2) est pourvu d'un étage Z (2d) qui peut être entraîné dans une direction Z dans une position située en dessous des unités de canon à électrons (3). Ce système permet de réduire les dimensions de la chambre principale. Un substrat de verre (10) peut être déplacé dans la direction Z à l'intérieur de la chambre principale (1). Ainsi, quelle que soit la position occupée par les unités de canon à électrons (3) à l'intérieur de la chambre principale (1), le contact entre le substrat de verre (10) et un cadre sondeur (6) se fait sans gêner les unités de canon à électrons (3).
(JA) TFTアレイ検査装置は、メインチャンバ1の上方に電子銃ユニット3を有すると共にメインチャンバ1内にガラス基板用ステージ2を備え、このガラス基板用ステージ2に、電子銃ユニット3の下方位置においてZ方向に駆動可能なZステージ2dを設ける。これにより、メインチャンバを小型化する。メインチャンバ1内において、ガラス基板10をZ方向に移動可能とすることによって、電子銃ユニット3がメインチャンバ1内の何れの位置に設置されているかに係わらず、ガラス基板10とプローバフレーム6との接触を、電子銃ユニット3と干渉することなく行う。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)