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1. (WO2008126714) 半導体ナノ粒子の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/126714 国際出願番号: PCT/JP2008/056317
国際公開日: 23.10.2008 国際出願日: 31.03.2008
IPC:
C01B 33/021 (2006.01) ,B82B 3/00 (2006.01)
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
33
けい素;その化合物
02
けい素
021
製造
B 処理操作;運輸
82
ナノテクノロジー
B
個別の原子,分子,または限られた数の原子または分子の集合を区別された単位として操作しながら形成されたナノ構造;その製造または処理
3
個別の原子,分子,または,限られた数の原子または分子の集合を区別された単位としての操作によるナノ構造の製造または処理
出願人:
コニカミノルタエムジー株式会社 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 〒1918511 東京都日野市さくら町1番地 Tokyo 1, Sakura-machi, Hino-shi, Tokyo 1918511, JP (AllExceptUS)
西川 久美子 NISHIKAWA, Kumiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
塚田 和也 TSUKADA, Kazuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
古澤 直子 FURUSAWA, Naoko [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
西川 久美子 NISHIKAWA, Kumiko; JP
塚田 和也 TSUKADA, Kazuya; JP
古澤 直子 FURUSAWA, Naoko; JP
優先権情報:
2007-10035606.04.2007JP
発明の名称: (EN) PROCESS FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR NANOPARTICLES
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE NANOPARTICULES SEMI-CONDUCTRICES
(JA) 半導体ナノ粒子の製造方法
要約:
(EN) This invention provides a process for producing semiconductor nanoparticles with controlled particle diameters at a good yield. This production process is characterized by comprising adding a raw material of semiconductor nanoparticles to a liquid phase for dispersion having a very small reaction field formed by ultrasonic waves and then adding a reducing agent to form semiconductor nanoparticles.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production de nanoparticules semi-conductrices présentant un diamètre de particule planifié, avec un bon rendement. Ce procédé de production est caractérisé en ce qu'il comprend l'addition d'une matière première pour nanoparticules semi-conductrices à une phase liquide en vue de sa dispersion, ladite phase liquide présentant un très petit champ de réaction formé par des ondes ultrasoniques, cela étant suivi de l'addition d'un agent réducteur pour entraîner la formation des nanoparticules semi-conductrices.
(JA)  粒径の制御された半導体ナノ粒子を収率良く得る製造方法は、超音波で微小反応場を形成した分散用の液相に半導体ナノ粒子の原料を添加した後、還元剤を添加して半導体ナノ粒子を形成させることを特徴とする半導体ナノ粒子の製造方法によって達成される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)