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1. (WO2008126501) スクライブ装置及びスクライブ方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/126501    国際出願番号:    PCT/JP2008/053695
国際公開日: 23.10.2008 国際出願日: 29.02.2008
IPC:
C03B 33/02 (2006.01), B28D 5/00 (2006.01), C03B 33/03 (2006.01), C03B 33/04 (2006.01)
出願人: THK CO., LTD. [JP/JP]; 11-6, Nishi Gotanda 3-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418503 (JP) (米国を除く全ての指定国).
THK INTECHS CO., LTD. [JP/JP]; 4-11-10, Toyotamakita, Nerima-ku, Tokyo 1760012 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HOSHINO, Takanobu [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
MITO, Masanori [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
HANYU, Akio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKAMURA, Masahiko [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SHISHIDO, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
SAKAKIBARA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KONO, Takaya [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HOSHINO, Takanobu; (JP).
MITO, Masanori; (JP).
HANYU, Akio; (JP).
NAKAMURA, Masahiko; (JP).
SHISHIDO, Yoshiaki; (JP).
SAKAKIBARA, Masahiro; (JP).
KONO, Takaya; (JP)
代理人: SHIOJIMA, Toshiyuki; Floral Akihabara bldg. 7F., 2-12, Kandasakumacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010025 (JP)
優先権情報:
2007-095047 30.03.2007 JP
発明の名称: (EN) SCRIBING DEVICE AND SCRIBING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE RAINURAGE ET PROCÉDÉ DE RAINURAGE
(JA) スクライブ装置及びスクライブ方法
要約: front page image
(EN)A scribing device which can attain deep penetration while suppressing damage on the surface of a work. The scribing device comprises a table (1) for securing at least a part on one of the sides sandwiching a portion of the work (W) where a scribe line (L) is to be cut and keeping the other side of the work (W) in cantilever state; and relative moving mechanisms (3, 6) for abutting a cutter (10) against the portion, which is to have the scribe line (L) cut and is floating in the air, moving the cutter (10) relatively to the work (W) along the portion where the scribe line is to be cut, and cutting the scribe line (L) in the work (W). A force for controlling the vector of a force required for growing a vertical crack (a force in the direction intersecting the scribe line perpendicularly within the surface of the work (W)) does not act when the other side of the work (W) is released. Consequently, vertical crack can grow easily and growth of horizontal crack can be suppressed.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de rainurage qui permet de parvenir à une pénétration profonde tout en supprimant un endommagement sur la surface d'une pièce. Le dispositif de rainurage comporte une table (1) pour fixer au moins une partie sur l'un des côtés en prenant en sandwich une partie de la pièce (W) où une ligne de rainurage (L) doit être coupée et en maintenant l'autre côté de la pièce (W) dans un état de porte-à-faux; et des mécanismes de déplacement relatif (3, 6) pour mettre en butée un organe de coupe (10) contre la partie dans laquelle la ligne de rainurage (L) doit être coupée et qui est flottante dans l'air, pour déplacer l'organe de coupe (10) par rapport à la pièce (W) le long de la partie où la ligne de rainurage doit être coupée, et pour couper la ligne de rainurage (L) dans la pièce (W). Une force pour commander le vecteur d'une force nécessaire pour développer une fissure verticale (une force dans la direction coupant la ligne de rainurage perpendiculairement à l'intérieur de la surface de la pièce (W)) n'agit pas lorsque l'autre côté de la pièce est libéré. Par conséquent, une fissure verticale peut se développer facilement et une croissance de fissure horizontale peut être supprimée.
(JA) ワークの表面のダメージを少なく、かつ深い浸透を得ることができるスクライブ装置を提供する。  本発明のスクライブ装置は、ワークWのスクライブ線Lが刻まれる予定の部分を挟んだ一方の側の少なくも一部が固定され、ワークWの他方の側を空中に浮いた片持ち状態にするテーブル1と、空中に浮いた状態にあるスクライブ線Lが刻まれる予定の部分にカッタ10を当接し、スクライブ線が刻まれる予定の部分に沿ってカッタ10をワークWに対して相対的に移動して、ワークWにスクライブ線Lを刻む相対移動機構3,6と、を備える。垂直クラックを成長させるために必要な力のベクトル(ワークWの表面内でスクライブ線と直交する方向の力)を抑え込む力が、ワークWの他方の側の固定を解除することで働かなくなる。そのため、垂直クラックが成長し易くなり、水平クラックの成長も抑えることが可能になる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)