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1. (WO2008126316) パターンド媒体およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/126316 国際出願番号: PCT/JP2007/057271
国際公開日: 23.10.2008 国際出願日: 30.03.2007
予備審査請求日: 05.09.2008
IPC:
G11B 5/84 (2006.01) ,G11B 5/65 (2006.01)
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62
材料の選択によって特徴づけられる記録担体
64
結合材料をもたない磁性材料のみからなるもの
65
構造によって特徴づけられるもの
出願人:
パイオニア株式会社 Pioneer Corporation [JP/JP]; 〒1538654 東京都目黒区目黒1丁目4番1号 Tokyo 4-1, Meguro 1-chome, Meguro-ku Tokyo 1538654, JP (AllExceptUS)
細田 康雄 HOSODA, Yasuo [JP/JP]; JP (UsOnly)
加園 修 KASONO, Osamu [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
細田 康雄 HOSODA, Yasuo; JP
加園 修 KASONO, Osamu; JP
代理人:
藤村 元彦 FUJIMURA, Motohiko; 〒1040045 東京都中央区築地4丁目1番1号 東劇ビル 藤村合同特許事務所 Tokyo FUJIMURA PATENT BUREAU, Togeki-Bldg., 1-1, Tsukiji 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040045, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) PATTERNED MEDIUM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
(FR) SUPPORT À MOTIFS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) パターンド媒体およびその製造方法
要約:
(EN) A drawing method for producing a patterned medium on which a dot pattern for achieving high record density and high S/N ratio of reproduction signal is formed. The drawing method comprises a step for fixing a base board onto a turntable, and a step for forming spot exposure regions periodically along each target line by forming the spots of a focusing energy beam periodically along each of a plurality of drawing target lines provided in the peripheral direction of the central axis of the turntable while rotary driving the turntable about the central axis. At every predetermined number of more than one target lines out of the plurality of target lines, spot exposure regions adjoining in a predetermined direction traversing the target lines overlap to form a composite exposure region.
(FR) L'invention concerne un procédé de traçage pour produire un support à motifs sur lequel est formé une formation de points qui permet d'obtenir une haute densité d'enregistrement et un rapport S/N élevé du signal de reproduction. Ce procédé de traçage comprend une étape qui consiste à fixer une plaque de base sur une table de lecture, et une étape pour former des régions d'exposition de point périodiquement le long de chaque ligne cible par formation des points d'un faisceau énergétique de focalisation périodiquement le long de chaque ligne cible faisant partie d'une pluralité de lignes cibles de traçage disposées dans le sens périphérique de l'axe central de la table de lecture tout en entraînant cette dernière de manière rotative autour de l'axe central. À un nombre prédéterminé supérieur à au moins une ligne cible parmi la pluralité de lignes cibles, des régions d'exposition de point adjacentes dans un sens prédéterminé traversant les lignes cibles se chevauchent pour former une région d'exposition composite.
(JA)  高記録密度および再生信号の高S/N比を実現し得るドットパターンが形成されたパターンド媒体を製造するための描画方法を提供する。この描画方法は、ベース基板をターンテーブル上に固定するステップと、ターンテーブルを中心軸周りに回転駆動しつつ、前記中心軸周りの方向に設けられた複数の描画用目標線の各々に沿って集束エネルギー線のスポットを前記レジスト膜に周期的に形成することにより前記各目標線に沿って周期的にスポット露光領域を形成するステップと、を備える。前記複数の目標線のうち2以上の所定数の目標線毎に、前記目標線を横断する所定方向に隣り合うスポット露光領域同士が重複して複合露光領域を形成する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)