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1. WO2008126290 - 半導体装置

国際出願ステータス
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19.02.2020国際出願ステータス レポートHTML, PDF, XMLPDF, XML
公開された国際出願
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23.10.2008最初の国際公開 (ISR 含む)( (A1 43/2008))PDF (22p.)PDF (22p.), Zip ファイル (XML + TIFF ファイル), FullText
調査及び審査関連書類
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20.10.2009国際調査機関の見解書の英訳PDF (4p.)PDF (4p.), Zip ファイル (XML + TIFF ファイル)
06.10.2009(IPEA/373) 特許性に関する国際予備報告 (第 I 章)PDF (5p.)PDF (5p.), Zip ファイル (XML + TIFF ファイル)
30.09.2009(ISA/237) 国際調査機関の見解書PDF (4p.)PDF (4p.), Zip ファイル (XML + TIFF ファイル)
国際事務局において保管されている関連書類
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20.10.2009(IB/373) 特許性に関する国際予備報告 (第 I 章) の英訳PDF (5p.)PDF (5p.), Zip ファイル (XML + TIFF ファイル)
23.10.2008願書様式 (RO/101)PDF (3p.)