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1. (WO2008123434) 回転マグネットスパッタ装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/123434 国際出願番号: PCT/JP2008/056139
国際公開日: 16.10.2008 国際出願日: 28.03.2008
IPC:
C23C 14/35 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
35
磁界の適用によるもの,例.マグネトロンスパッタリング
出願人:
国立大学法人東北大学 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 〒9808577 宮城県仙台市青葉区片平二丁目1番1号 Miyagi 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577, JP (AllExceptUS)
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 〒1076325 東京都港区赤坂五丁目3番1号 Tokyo 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP (AllExceptUS)
大見 忠弘 OHMI, Tadahiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
後藤 哲也 GOTO, Tetsuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
松岡 孝明 MATSUOKA, Takaaki [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
大見 忠弘 OHMI, Tadahiro; JP
後藤 哲也 GOTO, Tetsuya; JP
松岡 孝明 MATSUOKA, Takaaki; JP
代理人:
池田 憲保 IKEDA, Noriyasu; 〒1000011 東京都千代田区内幸町一丁目2番2号 日比谷ダイビル Tokyo Hibiya Daibiru Bldg. 2-2, Uchisaiwaicho 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000011, JP
優先権情報:
2007-09205830.03.2007JP
発明の名称: (EN) ROTATING MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS
(FR) APPAREIL ROTATIF DE PULVÉRISATION CATHODIQUE AU MAGNÉTRON
(JA) 回転マグネットスパッタ装置
要約:
(EN) In a rotating magnetron sputtering apparatus, a target consumption displacement quantity is measured, and corresponding to the measurement results, a distance between a rotating magnet group and a target is adjusted, and uniform film forming rate is achieved over a long period of time so as to reduce the change of a target surface due to consumption of the target and to reduce the change of the film forming rate with time. An ultrasonic sensor or a laser transmitting/receiving device may be used as a means for measuring the consumption displacement quantity of the target.
(FR) Dans un appareil rotatif de pulvérisation cathodique au magnétron, une quantité de déplacement de consommation cible est mesurée et, selon les résultats de mesure, la distance entre un groupe aimant rotatif et une cible est ajustée, et une vitesse de formation de film uniforme est atteinte sur une longue période de temps de façon à réduire le changement de la surface cible dû à la consommation de la cible et à réduire le changement de la vitesse de formation de film avec le temps. Un capteur ultrasonore ou un dispositif d'émission/réception de laser peut être utilisé en tant que moyen pour mesurer la quantité de déplacement de consommation de la cible.
(JA)  回転マグネットスパッタ装置において、ターゲットの消耗によってターゲット表面が変化し、成膜レートが経時変化するのを少なくするために、ターゲットの消耗変位量を測定し、測定結果に応じて、回転磁石群とターゲット間の距離を調整し、均一な成膜レートを長時間に亘って実現する。ターゲットの消耗変位量を測定する手段としては、超音波センサーを用いても良いし、レーザ送受信装置を用いても良い。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020090122376JPWO2008123434US20100126852CN101641458DE112008000765KR1020120034824
JP5147083