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1. (WO2008123411) プラズマ生成装置およびプラズマ成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/123411    国際出願番号:    PCT/JP2008/056063
国際公開日: 16.10.2008 国際出願日: 28.03.2008
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), C23C 16/505 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01Q 21/12 (2006.01)
出願人: Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. [JP/JP]; 6-4, Tsukiji 5-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048439 (JP) (米国を除く全ての指定国).
MORI, Yasunari [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
TAKIZAWA, Kazuki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: MORI, Yasunari; (JP).
TAKIZAWA, Kazuki; (JP)
代理人: GLOBAL IP TOKYO; CARMEL II, 8-3-30, Nishi-Shinjuku Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
優先権情報:
2007-091402 30.03.2007 JP
発明の名称: (EN) PLASMA GENERATING APPARATUS AND PLASMA FILM FORMING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM DE PLASMA
(JA) プラズマ生成装置およびプラズマ成膜装置
要約: front page image
(EN)A plasma generating apparatus is provided with an impedance matching member, which is connected to a feed line that supplies an antenna element with a high frequency signal, and has variable characteristic parameters for impedance matching; a distribution wiring, which is arranged corresponding to the impedance matching member and connects the impedance matching member with at least two antenna elements; and a control section which changes at the same time impedance matching statuses of at least the two antenna elements connected to the impedance matching member through the distribution wiring by changing the characteristic parameters of theimpedance member. Thus, the number of impedance matching devices is smaller than that of the antenna elements, and a mechanism relating to impedance matching is made relatively small.
(FR)Un appareil de génération de plasma comporte un élément d'adaptation d'impédance, qui est connecté à une ligne d'alimentation qui fournit à un élément d'antenne un signal haute fréquence, et a des paramètres caractéristiques variables pour l'adaptation d'impédance ; un câblage de distribution, qui est disposé de façon correspondante à l'élément de d'adaptation d'impédance et connecte l'élément d'adaptation d'impédance avec au moins deux éléments d'antenne ; et une section de commande qui change au même moment les états d'adaptation d'impédance des au moins deux éléments d'antenne connectés à l'élément d'adaptation d'impédance à travers le câblage de distribution par le changement des paramètres caractéristiques de l'élément d'impédance. Ainsi, le nombre de dispositifs d'adaptation d'impédance est inférieur à celui des éléments d'antenne, et un mécanisme apparenté à l'adaptation d'impédance est rendu relativement petit.
(JA) プラズマ生成装置は、アンテナ素子へ高周波信号を給電する給電線と接続された、インピーダンス整合のための特性パラメータが可変なインピーダンス整合部材と、インピーダンス整合部材に対応して設けられ、インピーダンス整合部材と少なくとも2つ以上のアンテナ素子とを接続する分配配線と、インピーダンス整合部材の特性パラメータを変化させて、分配配線を介してインピーダンス整合部材と接続された少なくとも2つ以上のアンテナ素子のインピーダンス整合状態を同時に変化させる制御部と、を有する。これにより、アンテナ素子に比べてインピーダンス整合器の数が少なく、インピーダンス整合に係る機構が比較的コンパクトな装置となる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)