WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
検索
 
閲覧
 
翻訳
 
オプション
 
最新情報
 
ログイン
 
ヘルプ
 
自動翻訳
1. (WO2008123373) コロイダルシリカ及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/123373    国際出願番号:    PCT/JP2008/055943
国際公開日: 16.10.2008 国際出願日: 27.03.2008
IPC:
C01B 33/141 (2006.01), B24B 37/00 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
出願人: FUSO CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 3-10, Koraibashi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410043 (JP) (米国を除く全ての指定国).
HIGUCHI, Kazuaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: HIGUCHI, Kazuaki; (JP)
代理人: SAEGUSA, Eiji; Kitahama TNK Building 1-7-1, Doshomachi Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5410045 (JP)
優先権情報:
2007-082159 27.03.2007 JP
発明の名称: (EN) COLLOIDAL SILICA, AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) SILICE COLLOÏDALE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) コロイダルシリカ及びその製造方法
要約: front page image
(EN)Disclosed is a silica particle which is dense and contains metal impurities in less quantities. Specifically disclosed is a colloidal silica produced by using an alkyl silicate as a raw material. When a sample is prepared by adding 1% by weight of polydimethylsilane (as an internal standard) to a dried product of the colloidal silica and solid-state 29Si-CP/MAS-NMR spectra are measured on the sample, a peak area ratio as calculated in accordance with the formula: (a peak area for the colloidal silica)/(a peak area for polydimethylsilane) is 15 or less. Also disclosed is a method for producing the colloidal silica.
(FR)L'invention porte sur une particule de silice qui est dense et qui contient des impuretés métalliques en petites quantités. De façon précise, l'invention porte sur une silice colloïdale obtenue à l'aide d'un silicate d'alkyle comme matière première. Lorsqu'un échantillon est préparé par addition de 1 % en poids de polydiméthylsilane (comme étalon interne) à un produit séché de la silice colloïdale et que des spectres de 29Si-CP/MAS-RMN à l'état solide sont mesurés sur l'échantillon, un rapport de surface de pic, tel que calculé selon la formule : (aire de pic pour la silice colloïdale)/(aire de pic pour le polydiméthylsilane) est de 15 ou moins. L'invention porte également sur un procédé de fabrication de la silice colloïdale.
(JA) 本発明は、金属不純物がより少なくかつ緻密なシリカ粒子を提供する。  本発明は、具体的には、ケイ酸アルキルを原料として得られるコロイダルシリカであって、前記コロイダルシリカの乾固物に対して内部標準としてポリジメチルシラン1重量%を添加した試料において、固体29Si-CP/MAS-NMRスペクトルを測定した場合におけるコロイダルシリカピーク面積/ポリジメチルシランピーク面積の計算式で求められるピーク面積値が15以下であることを特徴とするコロイダルシリカ及びその製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)