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1. (WO2008123314) アクティブマトリックス基板、液晶表示装置、および、アクティブマトリックス基板の画素欠陥修正方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/123314 国際出願番号: PCT/JP2008/055754
国際公開日: 16.10.2008 国際出願日: 26.03.2008
IPC:
G02F 1/1368 (2006.01) ,G02F 1/13 (2006.01) ,G09F 9/00 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
136
半導体の層または基板と構造上組み合された液晶セル,例.集積回路の一部を構成するセル
1362
アクティブマトリックスセル
1368
スイッチング素子が三端子の素子であるもの
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30
必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 〒5458522 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 Osaka 22-22, Nagaike-Cho, Abeno-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5458522, JP (AllExceptUS)
大坪 友和 OHTSUBO, Tomokazu; null (UsOnly)
発明者:
大坪 友和 OHTSUBO, Tomokazu; null
代理人:
佐野 静夫 SANO, Shizuo; 〒5400032 大阪府大阪市中央区天満橋京町2-6天満橋八千代ビル別館 Osaka Tenmabashi-Yachiyo Bldg. Bekkan, 2-6, Tenmabashi-Kyomachi, Chuo-Ku, Osaka-Shi, Osaka 5400032, JP
優先権情報:
2007-07857926.03.2007JP
発明の名称: (EN) ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING PIXEL DEFECT OF ACTIVE MATRIX SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT DE MATRICE ACTIVE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET PROCÉDÉ DE CORRECTION D'UN DÉFAUT DE PIXEL D'UN SUBSTRAT DE MATRICE ACTIVE
(JA) アクティブマトリックス基板、液晶表示装置、および、アクティブマトリックス基板の画素欠陥修正方法
要約:
(EN) Laser irradiation sections (41-44) are irradiated with laser, electricity is carried through drain extraction wiring (16a), a connecting electrode (2b) for correction, a data signal line {13(m+1)} and a connection electrode (2a) for correction. The laser irradiation sections (45, 46) are irradiated with laser to separate a part of the data signal line 13 {13 (m+1)} from the data signal line {13 (m+1)} and a bypass line (P1) is formed. Furthermore, laser irradiation sections (47, 48) of the data signal line {13(m)} not being used as a bypass line are irradiated with laser, and a region between the laser irradiation sections (47, 48) is separated from the data signal line {13(m)} so as not to permit electricity to be carried.
(FR) Selon l'invention, des sections d'irradiation par laser (41-44) sont irradiées par un laser, de l'électricité est transportée à travers un câblage d'extraction de drain (16a), une électrode de connexion (2b) pour une correction, une ligne de signal de données {13(m+1)} et une électrode de connexion (2a) pour une correction. Les sections d'irradiation par laser (45, 46) sont irradiées par un laser pour séparer une partie de la ligne de signal de données 13 {13 (m+1)} à partir de la ligne de signal de données {13 (m+1)} et une ligne de dérivation (P1) est formée. De plus, des sections d'irradiation par laser (47, 48) de la ligne de signal de données {13(m)} qui ne sont pas utilisées en tant que ligne de dérivation sont irradiées par un laser, et une région entre les sections d'irradiation par laser (47, 48) est séparée de la ligne de signal de données {13(m)} de manière à ne pas permettre à l'électricité d'être transportée.
(JA)  レーザ照射部(41~44)にレーザを照射し、ドレイン引出配線(16a)と修正用接続電極(2b)、データ信号線{13(m+1)}、修正用接続電極(2a)とを導通させるとともに、レーザ照射部(45,46)にレーザを照射して、データ信号線13{13(m+1)}の一部をデータ信号線{13(m+1)}から切り離してバイパスラインP1を形成する。さらに、バイパスラインとして用いていないデータ信号線{13(m)}の、レーザ照射部(47,48)にレーザを照射して、レーザ照射部(47,48)の間の領域をデータ信号線{13(m)}から切り離して導通不能とする。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)