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1. (WO2008120799) コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/120799 国際出願番号: PCT/JP2008/056546
国際公開日: 09.10.2008 国際出願日: 02.04.2008
IPC:
C23C 24/04 (2006.01) ,B05B 7/14 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
24
無機質粉末から出発する被覆
02
圧力のみを加えることによるもの
04
粒子の衝撃析出または動力学的析出
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
B
霧化装置;噴霧装置;ノズル
7
2つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの2つまたはそれ以上の源から液体または他の流動性材料を放出する噴霧装置,例.源が液体と空気からなるもの,粉体と気体からなるもの(B05B3/00,B05B5/00が優先
14
粒状材料を噴霧するために設計されたもの
出願人:
プラズマ技研工業株式会社 PLASMA GIKEN CO., LTD. [JP/JP]; 〒3350031 埼玉県戸田市美女木2丁目1番地の12 Saitama 2-1-12 Bijogi, Toda-shi, Saitama 3350031, JP (AllExceptUS)
深沼 博隆 FUKANUMA, Hirotaka [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
深沼 博隆 FUKANUMA, Hirotaka; JP
代理人:
吉村 勝博 YOSHIMURA, Katsuhiro; 〒3300854 埼玉県さいたま市大宮区桜木町2丁目5-4 大宮Fビル 吉村国際特許事務所 Saitama c/o Yoshimura International Patent Office Omiya F Bldg., 5-4, Sakuragicho 2-chome Omiya-ku, Saitama-shi, Saitama 3300854, JP
優先権情報:
2007-09659102.04.2007JP
発明の名称: (EN) NOZZLE FOR COLD SPRAY AND COLD SPRAY DEVICE
(FR) BUSE POUR PULVÉRISATION À FROID ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION À FROID
(JA) コールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置
要約:
(EN) A nozzle for cold spray and cold spray device that realize substantial reductions of the adhesion of raw material powder to an internal wall part of cold spray nozzle and clogging of cold spray nozzle. The nozzle for cold spray is, for example, one including a tapered conical compression part and, communicating therewith, a spatulate conical expansion part, adapted to realize inflow of a raw material powder through a nozzle inlet of the compression part by the use of operating gas of temperature not higher than the melting point of the raw material powder and realize emission of a supersonic jet from a nozzle outlet provided at the distal end of the expansion part, characterized in that the expansion part at at least its inner circumferential wall surface consists of a ceramic material selected from among silicon nitride ceramic, zirconia ceramic and silicon carbide ceramic.
(FR) L'invention concerne une buse de pulvérisation à froid et un dispositif de pulvérisation à froid qui réalise des réductions importantes d'adhérence de la poudre de matière première sur une partie de paroi interne d'une buse de pulvérisation à froid et du bouchage d'une buse de pulvérisation à froid. La buse de pulvérisation à froid est, par exemple, une buse comprenant une partie de compression conique effilée et, communiquant avec celle-ci, une partie de détente conique à spatule, adaptée pour réaliser l'introduction d'une poudre de matière première à travers une entrée de buse de la partie de compression par l'utilisation de gaz d'actionnement ayant une température qui n'est pas plus élevée que le point de fusion de la poudre de matière première et réaliser l'émission d'un jet supersonique à partir d'une sortie de buse agencée à l'extrémité distale de la partie de détente, caractérisé en ce que la partie de détente au moins au niveau de sa surface de paroi circonférentielle intérieure comprend un matériau de céramique sélectionné parmi une céramique de nitrure de silicium, une céramique d'oxyde de zircone et une céramique de carbure de silicium.
(JA)  コールドスプレー用ノズルの内壁部への原料粉末の付着及びコールドスプレー用ノズルの閉塞を大幅に減少できるコールドスプレー用ノズル及びコールドスプレー装置を提供する。この目的を達成するため、先細で円錐状の圧縮部と該圧縮部に連通する先広がりで円錐状の膨張部とを含み、原料粉末をその融点以下の作動ガスを用いて該圧縮部のノズル入口から流入させ、該膨張部先端のノズル出口より超音速流として噴出させるコールドスプレー用ノズルであって、該膨張部は、少なくとも内周壁面が窒化ケイ素セラミックス、ジルコニアセラミックス、炭化ケイ素セラミックスのいずれかのセラミックス材で形成されていることを特徴とするコールドスプレー用ノズル等を採用する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)