国際・国内特許データベース検索
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2008120716) 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ可読記憶媒体
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/120716 国際出願番号: PCT/JP2008/056082
国際公開日: 09.10.2008 国際出願日: 28.03.2008
IPC:
H01L 21/683 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
56
連続被覆のために特に適合した装置;真空を維持するための装置,例.真空ロック
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
出願人:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 〒1076325 東京都港区赤坂五丁目3番1号 Tokyo 3-1, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1076325, JP (AllExceptUS)
近藤 圭祐 KONDOH, Keisuke [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
近藤 圭祐 KONDOH, Keisuke; JP
代理人:
伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko; 〒1506032 東京都渋谷区恵比寿4丁目20番3号 恵比寿ガーデンプレイスタワー32階 Tokyo 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-Chome, Shibuya-Ku, Tokyo 1506032, JP
優先権情報:
2007-09537630.03.2007JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET SUPPORT DE STOCKAGE LISIBLE PAR ORDINATEUR
(JA) 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ可読記憶媒体
要約:
(EN) Disclosed is a substrate processing apparatus wherein a substrate is taken out from inside a carrier placed on a carry in/out port by a substrate transfer section in a transfer chamber, then, the substrate is transferred to a processing module, and processed in the processing module. The substrate processing apparatus is provided with a substrate storing chamber connected to the outer side of the transfer chamber to communicate with the transfer chamber through a transfer port; a first storing shelf arranged in the substrate storing chamber for storing a plurality of substrates for a first storage purpose; a second storage shelf arranged in the substrate storing chamber for storing the substrates for a second storage purpose different from the first storage purpose; and a moving mechanism for moving the first storing shelf and the second storing shelf so that a substrate storing region of either the first storing shelf or the second storing shelf is positioned to transfer the substrate between the substrate storing region and the substrate transfer section through the transfer port.
(FR) L'invention concerne un appareil de traitement de substrat dans lequel un substrat est prélevé de l'intérieur d'un support placé sur un orifice d'entrée/sortie par une section de transfert de substrat dans une chambre de transfert. Puis, le substrat est transféré vers un module de traitement, et traité dans le module de traitement. L'appareil de traitement de substrat comporte une chambre de stockage de substrats raccordée au côté externe de la chambre de transfert pour communiquer avec la chambre de transfert à travers un orifice de transfert ; une première étagère de stockage disposée dans la chambre de stockage de substrats pour stocker une pluralité de substrats pour un premier objectif de stockage ; une seconde étagère de stockage disposée dans la chambre de stockage de substrats pour stocker les substrats pour un second objectif de stockage différent du premier objectif de stockage ; et un mécanisme mobile pour déplacer la première étagère de stockage et la seconde étagère de stockage de telle sorte qu'une région de stockage de substrats de l'une ou l'autre de la première étagère de stockage et de la seconde étagère de stockage est positionnée pour transférer le substrat entre la région de stockage de substrats et la section de transfert de substrat à travers l'orifice de transfert.
(JA)  搬入出ポートに載置されたキャリア内から搬送室内の基板搬送部により基板を取り出して処理モジュールに受け渡し、当該処理モジュール内にて基板の処理を行う基板処理装置が開示される。この基板処理装置は、搬送室の外側に当該搬送室に連通するように搬送口を介して接続された基板保管室と、基板保管室に設けられ、第1の保管目的で複数の基板を保管するための第1の保管棚と、基板保管室に設けられ、第1の保管目的とは異なる第2の保管目的で複数の基板を保管する第2の保管棚と、第1の保管棚及び第2の保管棚のうちの一方の基板保管領域を、当該基板保管領域と基板搬送部との間で搬送口を介して基板の受け渡しができるように位置するために、当該第1の保管棚及び第2の保管棚を移動する移動機構と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020090094054JP2008258188US20100102030CN101542713