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1. (WO2008120715) 基板処理装置及びその処理室内の状態安定化方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/120715    国際出願番号:    PCT/JP2008/056080
国際公開日: 09.10.2008 国際出願日: 28.03.2008
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
出願人: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1076325 (JP) (米国を除く全ての指定国).
SHIMIZU, Noriaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KAISE, Seiichi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
IIJIMA, Kiyohito [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: SHIMIZU, Noriaki; (JP).
KAISE, Seiichi; (JP).
IIJIMA, Kiyohito; (JP)
代理人: ITOH, Tadahiko; 32nd Floor, Yebisu Garden Place Tower, 20-3, Ebisu 4-Chome, Shibuya-Ku, Tokyo 1506032 (JP)
優先権情報:
2007-093582 30.03.2007 JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR STABILIZING STATUS IN PROCESSING CHAMBER OF THE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE STABILISATION DE STATUT DANS LA CHAMBRE DE TRAITEMENT DE L'APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置及びその処理室内の状態安定化方法
要約: front page image
(EN)A substrate processing apparatus is provided with a susceptor arranged in a processing chamber for placing a substrate; a high frequency power supply for supplying the susceptor with high frequency power; a gas supply section for supplying inside the processing chamber with a prescribed gas; an exhaust section for exhausting the processing chamber; and a control section, which makes the exhaust section perform exhaustion by supplying inside the processing chamber with the prescribed gas from the gas supply section, in a status where the substrate is not placed on the susceptor prior to starting to process the substrate in the processing chamber, applies high frequency power to the susceptor from the high frequency power supply, and permits a process for stabilizing the status in the processing chamber to be executed.
(FR)L'appareil de traitement de substrat selon la présente invention est équipé d'un suscepteur disposé dans une chambre de traitement destinée à placer un substrat ; un bloc d'alimentation à haute fréquence destiné à fournir au suscepteur une puissance à haute fréquence ; une section d'alimentation en gaz destinée à amener à l'intérieur de la chambre de traitement un gaz prescrit ; une section d'échappement destinée à évacuer le gaz de la chambre de traitement ; et une section de contrôle, qui fait en sorte que la section d'échappement effectue une évacuation en amenant à l'intérieur de la chambre de traitement le gaz prescrit à partir de la section d'alimentation en gaz, dans un état dans lequel le substrat n'est pas placé sur le suscepteur avant de commencer le traitement du substrat dans la chambre de traitement, applique une puissance à haute fréquence sur le suscepteur à partir du bloc d'alimentation à haute fréquence, et permet d'obtenir un traitement permettant de stabiliser l'état dans la chambre de traitement devant être exécuté.
(JA) 処理室内に配置され、基板を載置するサセプタと、サセプタに高周波電力を供給する高周波電源と、処理室内に所定のガスを供給するガス供給部と、処理室を排気する排気部と、処理室内で基板のプロセス処理を開始するのに先立って、サセプタに基板を載置しない状態で、処理室内にガス供給部から所定のガスを供給しながら排気部で排気を行って、高周波電源からの高周波電力をサセプタに印加して、処理室内の状態を安定化させる処理を実行させる制御部とを備える基板処理装置が開示される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)