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1. (WO2008120391) マルチコラム電子ビーム露光装置及びマルチコラム電子ビーム露光方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/120391    国際出願番号:    PCT/JP2007/056974
国際公開日: 09.10.2008 国際出願日: 29.03.2007
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
出願人: ADVANTEST CORPORATION [JP/JP]; 32-1, Asahi-cho 1-chome, Nerima-ku, Tokyo 1790071 (JP) (米国を除く全ての指定国).
YASUDA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
YAMADA, Akio [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
NAKANO, Mitsuhiro [JP/JP]; (JP) (米国のみ).
KIUCHI, Takashi [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: YASUDA, Hiroshi; (JP).
YAMADA, Akio; (JP).
NAKANO, Mitsuhiro; (JP).
KIUCHI, Takashi; (JP)
代理人: OKAMOTO, Keizo; OKAMOTO PATENT OFFICE Yamanishi Bldg., 4F, 11-7, Nihonbashi Ningyo-cho 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
優先権情報:
発明の名称: (EN) MULTI-COLUMN ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE AND MULTI-COLUMN ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION À FAISEAU ÉLECTRONIQUE À COLONNES MULTIPLES ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION À FAISCEAU ÉLECTRONIQUE À COLONNES MULTIPLES
(JA) マルチコラム電子ビーム露光装置及びマルチコラム電子ビーム露光方法
要約: front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a multi-column electron beam exposure device and a multi-column electron beam exposure method which can improve the exposure accuracy and adjust the calibration time so as to improve the exposure throughput. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A multi-column electron beam exposure device includes: a plurality of column cells; an electron beam characteristic detection unit; a deflector for deflecting the electron beam according to exposure data; and a control unit which uses the electron beam characteristic detection unit to calculate an electron beam characteristic prediction value by using a continuous function for smoothly connecting measurement values obtained at calibration times in the past, the function being a prediction function continuously changing the electron beam characteristic until the next calibration time together with the plotting time, thereby calculating a correction value for the exposure data on each column cell. The control unit adjusts the calibration time interval according to a difference between the measurement value and the prediction value of the electron beam characteristic.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples et un procédé d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples qui peut améliorer la précision d'exposition et régler le temps d'étalonnage afin d'améliorer le rendement d'exposition. Un dispositif d'exposition à faisceau électronique à colonnes multiples comprend : une pluralité de cellules en colonnes, une unité de détection de caractéristiques de faisceau électronique, un déflecteur destiné à dévier le faisceau électronique en fonction de données d'exposition, et une unité de commande qui utilise l'unité de détection de caractéristiques de faisceau électronique pour calculer une valeur de prédiction de caractéristique de faisceau électronique par l'utilisation d'une fonction continue afin de lisser des valeurs de mesure de connexion obtenue à des moments d'étalonnage antérieurs, la fonction étant une fonction de prédiction qui modifie en continu la caractéristique du faisceau électronique jusqu'au prochain moment d'étalonnage avec le moment de pointage, calculant ainsi une valeur de correction pour les données d'exposition sur chaque cellule de colonne. L'unité de commande règle l'intervalle de durée d'étalonnage en fonction d'une différence entre la valeur de mesure et la valeur de prédiction de la caractéristique de faisceau électronique.
(JA)【課題】露光精度を向上させるとともにキャリブレーション時間を調整して露光スループットを向上させることが可能なマルチコラム電子ビーム露光装置及びマルチコラム電子ビーム露光方法を提供すること。 【解決手段】マルチコラム電子ビーム露光装置は、複数個のコラムセルと、電子ビーム特性検出部と、露光データに基づいて電子ビームを偏向する偏向器と、電子ビーム特性検出部を用い、過去の複数回のキャリブレーション時刻における複数の計測値を滑らかに結ぶ連続関数であって次のキャリブレーション時刻までの電子ビーム特性を描画時刻とともに連続的に変化する予測関数を用いて、電子ビーム特性の予測値を算出し、各コラムセルの露光データに対する補正量を算出する制御部とを有する。制御部は電子ビーム特性の測定値と予測値との差分に応じて、キャリブレーション時刻の間隔を調整する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)