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1. (WO2008117897) 環状シロキサン化合物及びそれを用いたポジ型レジスト組成物
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/117897 国際出願番号: PCT/JP2008/057418
国際公開日: 02.10.2008 国際出願日: 16.04.2008
IPC:
C07F 7/21 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/075 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
F
炭素,水素,ハロゲン,酸素,窒素,硫黄,セレンまたはテルル以外の元素を含有する非環式,炭素環式または複素環式化合物
7
周期律表の第4族の元素を含有する化合物
02
ケイ素化合物
21
環中にケイ素を含有しかつ炭素を含有しない環を少なくとも1個もつ環状化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
075
シリコン含有化合物
出願人:
株式会社ADEKA ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 〒1160012 東京都荒川区東尾久7丁目2番35号 Tokyo 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1160012, JP (AllExceptUS)
森田 博 MORITA, Hiroshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
佐藤 宏美 SATO, Hiromi [JP/JP]; JP (UsOnly)
尾見 仁一 OMI, Jinichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
斎藤 誠一 SAITO, Seiichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
発明者:
森田 博 MORITA, Hiroshi; JP
佐藤 宏美 SATO, Hiromi; JP
尾見 仁一 OMI, Jinichi; JP
斎藤 誠一 SAITO, Seiichi; JP
代理人:
本多 一郎 HONDA, Ichiro; 〒1050004 東京都港区新橋二丁目12番5号池伝ビル6階 Tokyo 6th Floor, Ikeden Building 12-5, Shimbashi 2-chome Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
優先権情報:
2007-07599123.03.2007JP
発明の名称: (EN) CYCLIC SILOXANE COMPOUND AND POSITIVE RESIST COMPOSITION USING THE SAME
(FR) COMPOSÉ SILOXANE CYCLIQUE ET COMPOSITION DE RÉSINE POSITIVE L'UTILISANT
(JA) 環状シロキサン化合物及びそれを用いたポジ型レジスト組成物
要約:
(EN) Disclosed is a cyclic siloxane compound which enables to obtain a positive resist composition having excellent physical properties as a resist. Also disclosed is a positive resist composition using such a cyclic siloxane compound. Specifically disclosed is a cyclic siloxane compound which is obtained by hydrosilylating a compound represented by the general formula (1) below and/or a compound which is obtained by hydrosilylating a compound represented by the general formula (1) below with a divinyl compound represented by the general formula (2) below, with a monovinyl compound represented by the general formula (3) below. (1) CH2=CH-R2-CH=CH2 (2) CH2=CR3-(R4)h-T (3)
(FR) La présente invention concerne un composé siloxane cyclique qui permet d'obtenir une composition de résine positive ayant d'excellentes propriétés comme résine. L'invention décrit également une composition de résine positive utilisant un tel composé siloxane cyclique. L'invention décrit spécifiquement un composé siloxane cyclique qui est obtenu en hydrosilylant un composé représenté par la formule générale (1) ci-dessous et/ou un composé qui est obtenu en hydrosilylant un composé représenté par la formule générale (1) ci-dessous avec un composé divinylique représenté par la formule générale (2) ci-dessous, avec un composé monovinylique représenté par la formule générale (3) ci-dessous. (1) CH2=CH-R2-CH=CH2 (2) CH2=CR3-(R4)h-T (3)
(JA)  レジストとしての物性に優れたポジ型レジスト組成物を与えることのできる環状シロキサン化合物及びそれを用いたポジ型レジスト組成物を提供する。  下記一般式(1)で表される化合物及び/又は下記一般式(1)で表される化合物を下記一般式(2)で表されるジビニル化合物とヒドロシリル化反応させて得られる化合物を、下記一般式(3)で表されるモノビニル化合物とヒドロシリル化反応させて得られる環状シロキサン化合物である。 CH=CH-R-CH=CH   (2) CH=CR-(R-T    (3)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)