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1. (WO2008117482) 真空成膜装置用部品及び真空成膜装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2008/117482 国際出願番号: PCT/JP2007/063812
国際公開日: 02.10.2008 国際出願日: 11.07.2007
IPC:
C23C 4/08 (2006.01) ,C23C 4/18 (2006.01) ,C23C 14/00 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
4
溶解被覆材料のスプレーによる被覆,例.火炎,プラズマまたは放電によるもの
04
被覆材料に特徴のあるもの
06
金属質材料
08
金属元素のみを含むもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
4
溶解被覆材料のスプレーによる被覆,例.火炎,プラズマまたは放電によるもの
18
後処理
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
出願人:
株式会社東芝 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 〒1058001 東京都港区芝浦一丁目1番1号 Tokyo 1-1, Shibaura 1-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1058001, JP (AllExceptUS)
東芝マテリアル株式会社 TOSHIBA MATERIALS CO., LTD. [JP/JP]; 〒2350032 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 Kanagawa 8, Shinsugita-Cho, Isogo-Ku, Yokohama-Shi, Kanagawa 2350032, JP (AllExceptUS)
佐藤 道雄 SATO, Michio; null (UsOnly)
中村 隆 NAKAMURA, Takashi; null (UsOnly)
発明者:
佐藤 道雄 SATO, Michio; null
中村 隆 NAKAMURA, Takashi; null
代理人:
波多野 久 HATANO, Hisashi; 〒1050003 東京都港区西新橋一丁目17番16号 宮田ビル2階東京国際特許事務所 Tokyo TOKYO INTERNATIONAL PATENT FIRM 2nd Floor, Miyata Building 17-16, Nishi-Shimbashi 1-Chome Minato-Ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報:
2007-07522922.03.2007JP
発明の名称: (EN) PART OF VACUUM FILM FORMING APPARATUS AND VACUUM FILM FORMING APPARATUS
(FR) PARTIE D'UN APPAREIL DE FORMATION DE PELLICULE SOUS VIDE ET APPAREIL DE FORMATION DE PELLICULE SOUS VIDE
(JA) 真空成膜装置用部品及び真空成膜装置
要約:
(EN) A part of vacuum film forming apparatus as a constituent of vacuum film forming apparatus structured so as to evaporate a thin film forming material in a vacuum vessel and deposit the vapor on a substratum to thereby form a thin film. There is provided part (1) of vacuum film forming apparatus composed of part frame (2) and, integrally superimposed on the surface thereof, thermally sprayed coating (3), characterized in that the sprayed coating (3) at its surface has multiple dents, the dents having a depth of not greater than 10 &mgr;m. By virtue of this construction, there can be provided a part of vacuum film forming apparatus realizing stably and effectively preventing of any exfoliation of film forming material adhering to apparatus constituting parts during the operation of film forming, suppressing of an increase of film forming cost and productivity drop of film product attributed to cleaning of film forming apparatus, frequent replacement of constituent parts, etc. and suppressing of any occurrence of microparticles.
(FR) La présente invention concerne une partie d'un appareil de formation de pellicule sous vide en tant qu'élément constitutif d'un appareil de formation de pellicule sous vide structuré de façon à produire l'évaporation d'un matériau de formation de fine pellicule dans une chambre à vide et le dépôt de la vapeur sur un substrat afin de former ainsi une fine pellicule. Il est prévu une partie (1) d'un appareil de formation de pellicule sous vide composée d'une armature de partie (2) et d'un revêtement par projection thermique (3) superposé d'un seul tenant sur la surface de celle-ci. Cet appareil de formation de pellicule sous vide est caractérisé en ce que le revêtement par projection (3) présente de multiples dents au niveau de sa surface, les dents ayant une hauteur ne dépassant pas 10 &mgr;m. Grâce à cette construction, il est possible d'assembler une partie d'un appareil de formation de pellicule sous vide assurant de façon stable et efficace la prévention de toute exfoliation d'un matériau de formation de pellicule adhérant à des parties constitutives de l'appareil pendant l'opération de formation de pellicule, de supprimer toute augmentation du coût de formation de la pellicule et toute baisse de productivité du produit en pellicule due au nettoyage de l'appareil de formation de pellicule, au fréquent remplacement de parties constitutives, etc. et d'empêcher toute apparition de microparticules.
(JA)  真空容器内で蒸発させた薄膜形成材料を基板上に蒸着せしめて薄膜を形成する真空成膜装置を構成する真空成膜装置用部品において、該真空成膜装置用部品1は部品本体2とその表面に一体に形成された溶射被膜3とから成り、この溶射被膜3の表面に複数のくぼみを有し、そのくぼみ深さが10μm以下であることを特徴とする真空成膜装置用部品1である。上記構成によれば、成膜工程中に装置構成部品に付着する成膜材料の剥離脱落を安定的かつ有効に防止し、成膜装置のクリーニングや構成部品の頻繁な交換などに伴う膜製品の生産性の低下や成膜コストの増加を抑制すると共に、微細なパーティクルの発生を抑制することを可能にした真空成膜装置用部品を提供することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
JPWO2008117482US20100107982JP5558807