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1. (WO2008111535) 絶縁性微粒子膜およびその製造方法ならびに絶縁性微粒子膜を用いたコンデンサー
国際事務局に記録されている最新の書誌情報   

Translation翻訳: 原文 > 日本語
国際公開番号:    WO/2008/111535    国際出願番号:    PCT/JP2008/054214
国際公開日: 18.09.2008 国際出願日: 07.03.2008
IPC:
H01B 17/62 (2006.01), C01B 13/14 (2006.01), H01G 4/33 (2006.01), B05D 5/12 (2006.01)
出願人: OGAWA, Kazufumi [JP/JP]; (JP).
WATANABE, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (米国のみ)
発明者: OGAWA, Kazufumi; (JP).
WATANABE, Yoshiaki; (JP)
優先権情報:
2007-060338 09.03.2007 JP
発明の名称: (EN) INSULATING FINE-PARTICLE FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND CAPACITOR EMPLOYING INSULATING FINE-PARTICLE FILM
(FR) FILM DE FINES PARTICULES ISOLANT, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET CONDENSATEUR EMPLOYANT LE FILM DE FINES PARTICULES ISOLANT
(JA) 絶縁性微粒子膜およびその製造方法ならびに絶縁性微粒子膜を用いたコンデンサー
要約: front page image
(EN)An insulating fine-particle film which is not limited in base size and the production of which does not necessitate any expensive apparatus such as a vacuum chamber; a process for producing the film; and a capacitor employing the insulating fine-particle film. The insulating fine-particle film (1) comprises: a conductive base (14) coated with a coating film made of a first film compound having a first functional group; and an insulating fine-particle layer composed of arranged reactive fine particles (42) each coated with a coating film made of a first coupling agent having a first coupling reaction group which forms a bond together with the first functional group through a coupling reaction, the fine-particle layer having been fixed to the surface of the base (14) through bonds each formed by the coupling reaction of the first functional group with the first coupling reaction group. The insulating fine-particle film may further include fine particles (24) each coated with a coating film of a film compound reactive with the first coupling reaction group and reactive fine particles (42), the particles (24) and the particles (42) having been alternately bonded and fixed to that insulating fine-particle layer.
(FR)L'invention concerne un film de fines particules isolant qui n'est pas limité en dimension de base et dont la fabrication ne nécessite aucun appareil coûteux, tel qu'une chambre sous vide ; un procédé de fabrication du film ; et un condensateur employant le film de fines particules isolant. Le film de fines particules isolant (1) comprend : une base conductrice (14) revêtue d'un film de revêtement fait d'un premier composé de film ayant un premier groupe fonctionnel ; et une couche de fines particules isolante composée de fines particules réactives agencées (42), chacune revêtue d'un film de revêtement fait d'un premier agent de couplage ayant un premier groupe de réaction de couplage qui forme une liaison conjointement avec le premier groupe fonctionnel par une réaction de couplage, la couche de fines particules ayant été fixée à la surface de la base (14) par des liaisons formées chacune par la réaction de couplage du premier groupe fonctionnel avec le premier groupe de réaction de couplage. Le film de fines particules isolant peut en outre comprendre de fines particules (24), chacune revêtue d'un film de revêtement d'un composé de film réactif avec le premier groupe de réaction de couplage et de fines particules réactives (42), les particules (24) et les particules (42) ayant été liées et fixées de façon alternée à cette couche de fines particules isolante.
(JA)  基材の大きさに制限がなく、製造に真空チャンバー等の高価な機器を必要としない絶縁体微粒子膜やその製造方法、ならびに絶縁性微粒子膜を用いたコンデンサーを提供する。  絶縁性微粒子膜1は、第1の官能基を有する第1の膜化合物の形成する被膜で被覆された導電性の基材14の表面に、第1の官能基とカップリング反応により結合を形成する第1のカップリング反応基を有する第1のカップリング剤の形成する被膜で被覆された反応性微粒子42が配列した絶縁性の微粒子層が、第1の官能基と第1のカップリング反応基とのカップリング反応により形成される結合を介して1層結合固定されている。あるいは、さらにその上に第1のカップリング反応基と反応する膜化合物の被膜で被覆された微粒子24および反応性微粒子42が交互に結合固定されている。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
国際公開言語: Japanese (JA)
国際出願言語: Japanese (JA)